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公开(公告)号：CN105308208A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480002040.8
申请日：2014-03-11
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , C04B35/453 , C04B2235/3286 , C04B2235/5409 , C04B2235/5436 , C04B2235/6583 , C04B2235/77 , C04B2235/785 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08
Abstract: 一种溅射靶，其为包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O)的IGZO烧结体溅射靶，其特征在于，In、Ga、Zn为0.575≥In/(In+Ga)≥0.500、且Zn/(In+Ga+Zn)＜0.333的组成范围，该溅射靶具有由(InxGa(1-x))2ZnO4(1＞x＞0)相构成的单一相组织、或者具有由(InxGa(1-x))2ZnO4(1＞x＞0)相和In2O3相构成的双相结构的组织，该In2O3相的最大直径为10μm以下。本发明提供实现降低溅射用靶的体电阻以及载流子浓度为一定范围以下、并且实现提高靶的密度、将电弧放电的产生抑制到最小限度、能够进行DC溅射的IGZO靶技术。
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公开(公告)号：CN102906301B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201180025334.9
申请日：2011-06-09
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3464 , C23C14/086 , C23C14/3407
Abstract: 本发明涉及一种ITO溅射靶，通过在背衬板上排列多个ITO分割靶并与该背衬板接合而构成，其中，仅在排列的ITO分割靶间的空隙侧的侧面具有选自铟、铟合金或锡合金的一种物质的覆盖层。本发明的课题在于提供：即使在分割ITO靶的连续溅射时，也可以抑制结瘤的产生和异常放电，并且可以得到在与空隙部分相对的衬底上形成的膜的特性与其它部分的膜的特性无差异，即膜特性的均匀性高的膜的ITO溅射靶，特别是FPD用溅射靶。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104080942A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201280068719.8
申请日：2012-09-25
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3423 , C23C14/3407 , H01J37/3417 , H01J37/342 , H01J37/3435
Abstract: 本发明涉及一种溅射靶组件，其为将直径100mm以上、长度1000mm以上的圆筒形的靶以分割线沿圆周方向的方式分割成三个以上的靶片A，并将该分割靶片A粘贴或设置在圆筒状或圆柱状的背衬体上而构成溅射靶-背衬接合体B，再使两个以上的该接合体B沿宽度方向对齐排列而得到的溅射靶组件，其特征在于，在将各个接合体B排列成溅射靶组件时，以接合体B中存在的三个靶片间的分割线不与相邻的分割靶片间的分割线位于相同位置的方式进行设置。本发明的课题是提供能够减少由靶片粘贴部引起的粉粒产生所导致的不良的溅射靶组件。
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公开(公告)号：CN102906301A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180025334.9
申请日：2011-06-09
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3464 , C23C14/086 , C23C14/3407
Abstract: 本发明涉及一种ITO溅射靶，通过在背衬板上排列多个ITO分割靶并与该背衬板接合而构成，其中，仅在排列的ITO分割靶间的空隙侧的侧面具有选自铟、铟合金或锡合金的一种物质的覆盖层。本发明的课题在于提供：即使在分割ITO靶的连续溅射时，也可以抑制结瘤的产生和异常放电，并且可以得到在与空隙部分相对的衬底上形成的膜的特性与其它部分的膜的特性无差异，即膜特性的均匀性高的膜的ITO溅射靶，特别是FPD用溅射靶。
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公开(公告)号：CN104080942B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201280068719.8
申请日：2012-09-25
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3423 , C23C14/3407 , H01J37/3417 , H01J37/342 , H01J37/3435
Abstract: 本发明涉及一种溅射靶组件，其为将直径100mm以上、长度1000mm以上的圆筒形的靶以分割线沿圆周方向的方式分割成三个以上的靶片A，并将该分割靶片A粘贴或设置在圆筒状或圆柱状的背衬体上而构成溅射靶-背衬接合体B，再使两个以上的该接合体B沿宽度方向对齐排列而得到的溅射靶组件，其特征在于，在将各个接合体B排列成溅射靶组件时，以接合体B中存在的三个靶片间的分割线不与相邻的分割靶片间的分割线位于相同位置的方式进行设置。本发明的课题是提供能够减少由靶片粘贴部引起的粉粒产生所导致的不良的溅射靶组件。
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公开(公告)号：CN103348035B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201180004937.0
申请日：2011-12-09
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3407 , C04B37/026 , C04B2237/12 , C04B2237/34 , C04B2237/407 , C04B2237/708 , C04B2237/76 , C23C14/564
Abstract: 一种溅射靶，将多个分割靶排列到背衬板上并且与该背衬板接合而构成，所述溅射靶的特征在于，在排列的多个各分割靶的表面，具有从距该分割靶的侧面的距离为23.0mm～0.10mm的位置朝向分割靶的侧面向下倾斜的5～40°的斜坡。本发明的课题在于提供一种溅射靶、特别是FPD用溅射靶，其即使在分割靶的连续溅射时，也能够抑制结核的产生和异常放电，并且在与间隙部分对置的基板上形成的膜的特性与其他部分的膜的特性没有差异，即得到膜特性的均匀性高的膜。
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公开(公告)号：CN103348035A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201180004937.0
申请日：2011-12-09
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3407 , C04B37/026 , C04B2237/12 , C04B2237/34 , C04B2237/407 , C04B2237/708 , C04B2237/76 , C23C14/564
Abstract: 一种溅射靶，将多个分割靶排列到背衬板上并且与该背衬板接合而构成，所述溅射靶的特征在于，在排列的多个各分割靶的表面，具有从距该分割靶的侧面的距离为23.0mm～0.10mm的位置朝向分割靶的侧面向下倾斜的5～40°的斜坡。本发明的课题在于提供一种溅射靶、特别是FPD用溅射靶，其即使在分割靶的连续溅射时，也能够抑制结核的产生和异常放电，并且在与间隙部分对置的基板上形成的膜的特性与其他部分的膜的特性没有差异，即得到膜特性的均匀性高的膜。
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