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公开(公告)号：CN107175929A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710139646.1
申请日：2017-03-09
Applicant: 塞米西斯科株式会社
Abstract: 公开光烧结装置及利用其的导电膜形成方法。光烧结装置包括：第1发光部，其发散第1光；一对第2发光部，其分别发散第2光，彼此相对配置，而且第1发光部配置在一对第2发光部之间；以及反射罩，其下部面的中心部配置于第1发光部的上方，包括一对主弯曲部及一对辅助弯曲部，反射第1光及第2光中向上发散的光，其中一对主弯曲部分别具有向上弯曲的形状且以沿着长度方向通过中心部的中心线为基准左右对称，一对主弯曲部的一端分别与中心线相接，一对辅助弯曲部分别具有向上弯曲的形状且一端分别与一对主弯曲部的另一端相接，配置于第2发光部的上方。本发明的光烧结装置能够一并执行干燥及烧结，大面积时也仍可以提高光烧结效率、提高光均匀度。
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公开(公告)号：CN106096672A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610269831.8
申请日：2016-04-27
Applicant: 塞米西斯科株式会社
IPC: G06K17/00
CPC classification number: G06K17/0022
Abstract: 本发明公开一种电子识别标签、利用电子识别标签的事件消息服务提供方法及其装置。电子识别标签包括芯片及形成于一面且与所述芯片电连接的天线，其中，另一面可以印刷有用于生成或确认事件消息的固有识别信息。根据本发明的电子识别标签，能够利用电子识别标签向接收礼物的对方提供关于纪念日或事件的消息，并且丢失电子识别标签的情况下也能够确认关于纪念日或事件预先登记的消息。
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公开(公告)号：CN100523920C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200680001286.9
申请日：2006-02-27
Applicant: 塞米西斯科株式会社
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G01N21/896 , G01N21/27 , G01N2021/9513 , G02F1/1309 , G02F2001/133302
Abstract: 提供一种检测边缘缺陷和变色的装置和方法。该装置包括：加载单元，传送用于制造薄膜晶体管液晶显示器的玻璃基底；检查单元，用于检查由加载单元传送的玻璃基底的边缘缺陷和变色；控制单元，用于控制加载单元和检查单元。所述边缘缺陷和变色检查装置能够在制造薄膜晶体管液晶显示器的处理期间自动执行玻璃基底的边缘缺陷和变色检查。此外，可将该边缘缺陷和变色检查装置设置在沉积、蚀刻和溅射处理之间，以实时地确认玻璃基底是好的还是坏的，从而执行经济而快速的处理。
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公开(公告)号：CN107228561A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710129708.0
申请日：2017-03-06
Applicant: 塞米西斯科株式会社
Abstract: 本发明的光烧结装置包括：第一弯曲部，其配置在向被处理物发光的发光部所在位置的左上侧且具有向上鼓起的形状，向被处理物的方向反射从发光部射出的光；第二弯曲部，其配置在发光部所在位置的右上侧且具有向上鼓起的形状，向被处理物的方向反射从发光部射出的光；第一反射壁，其具有从第一弯曲部的左侧端部向下曲线延伸的形状；及第二反射壁，其具有从第二弯曲部的右侧端部向下曲线延伸的形状，第一弯曲部的弦与第二弯曲部的弦位于同一线上，第一弯曲部的右侧端部与第二弯曲部的左侧端部形成接点，从接点向发光部的长度方向剖面中心延伸的线可以相对于形成有被处理物的基板垂直。本发明能够提高光均匀度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106226312A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610515785.5
申请日：2012-01-13
Applicant: 塞米西斯科株式会社
Abstract: 本发明公开一种基板成膜检查装置，包括基板成膜检查装置，该基板成膜检查装置包括：检查台；照明模块；相机，对成膜以单层或多层得到涂布的基板的表面进行逐行扫描方式的拍摄，并对基板的横向部边缘和纵向部边缘进行逐行扫描方式的拍摄；检查单元，由借助于相机拍摄到的图像信息分别计算出在基板的表面涂布为单层或多层的成膜与基板的横向部边缘及纵向部边缘之间的距离，且检查所计算出的距离是否对应于歪斜状态，其中，在基板的表面被涂布为单层或多层的成膜与基板的横向部边缘或纵向部边缘之间的距离以如下方式得到计算：对从相机拍摄到的图像信息中测定出的单层或多层的成膜与横向部边缘或纵向部边缘之间的像素数乘以每个单像素的基准长度。
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公开(公告)号：CN104766211A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201410005801.7
申请日：2014-01-06
Applicant: 塞米西斯科株式会社
Abstract: 本发明公开一种通过标签的认证码执行第一次认证及通过判断是否发生复制而执行第二次认证，以执行正品认证的系统及其方法。所述正品认证方法包括：比较从认证终端机发送的认证对象的认证信息与预先存储的认证信息，执行第一次认证的步骤；以及，判断所述认证对象的认证确认元件是否发生复制，执行第二次认证的步骤。其中，只有所述第一次认证及所述第二次认证均结束时，正品认证才结束。
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公开(公告)号：CN101542359B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN200780039736.8
申请日：2007-05-30
Applicant: 塞米西斯科株式会社
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G01N21/896 , G02F2203/69
Abstract: 本发明提供一种用于检查玻璃衬底的质量的设备，所述设备包括发射光仅透过玻璃衬底以检查玻璃衬底的波纹的发光部。所述设备和方法使用相机来更加清楚地拍摄玻璃衬底的表面的影子图像，并通过微分算法从影子图像更精确地检查波纹的存在。结果，可实时检查由输送装置连续输送的玻璃衬底的质量，从而提高了质量和对产品的满意度。当然，也可减少检查玻璃衬底的质量花费的时间，从而迅速并连续地执行诸如沉积、蚀刻、溅射等使用等离子体的处理。
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公开(公告)号：CN102017114A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200880128784.9
申请日：2008-05-22
Applicant: 塞米西斯科株式会社
CPC classification number: G01N21/896 , G01N2021/9513 , G02F1/1309
Abstract: 提供一种基板质量测试器。此基板质量测试器包括检测单元，此检测单元将一体地提供给安装在机器人的机器人支撑框架的一端以搬运基板。因此，能够解决由于基板的大小变化使其重量增加而导致基板搬运不稳定，稳定地进行基板表面的质量检测，以及稳定地供应基板给处理设备。
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公开(公告)号：CN101663735A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200780052134.6
申请日：2007-08-24
Applicant: 塞米西斯科株式会社
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32972 , C23C16/4401 , C23C16/52 , H01J37/32935
Abstract: 提供了一种在制造半导体基底或平板显示器基底的基底停置、沉积或蚀刻工艺期间实时监控腔室的方法。通过使用等离子体发射光谱(OES)信息的时间序列神经网络分析方法的泄漏检测方法包括：基于OES信号检测从等离子体光谱是否产生了由于泄露导致空气被引入到腔室而引起的特定光谱(例如，氮、氧、氩等)；使用没有泄漏时的正常OES信号模式和发生泄漏时的特定光谱的反常OES信号模式通过时间序列神经网络分析方法，确定泄漏的发生。因此，与在关闭设备之后通过传统的泄漏检测器的泄漏检测不同，可以根据检测信号在不需要关闭设备的情况下在单个晶片的基底停置、沉积或蚀刻工艺之后立即确定泄漏的发生，，实时检查腔室的泄漏的发生。另外，当腔室发生泄漏时，可减少确定时间，因此可提高产率。另外，当在高温HDPCVD工艺期间在腔室中产生泄漏时，可容易地确定破裂并防止对腔室的破坏以及破坏引起的事故。
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