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公开(公告)号：CN112781506A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011235816.4
申请日：2020-11-06
Applicant: 大塚电子株式会社
Inventor： 川口史朗 , 中嶋一八
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明提供一种膜厚测量装置，既能够抑制因进行膜厚测量而对测量对象物产生的污染，又能够以更短的时间进行膜厚测量。所述膜厚测量装置包括：测量用光路径，用于向测量对象物照射来自光源的光；校正用光路径，用于向参考用构件照射来自所述光源的光；以及光切换部，将来自所述测量对象物的反射光和来自所述参考用构件的反射光选择性地向分光器引导。
