公开(公告)号：CN1153311A

公开(公告)日：1997-07-02

申请号：CN96102420.8

申请日：1996-02-17

Applicant: 大宇电子株式会社

Inventor： 具明権 ,  郑在爀

IPC: G02F1/00 ,  G09F9/00 ,  G03B21/00

Abstract: 一种制造供在光学投影系统中使用的M×N个薄膜致动的反射镜的阵列的方法，包括下述步骤：提供一有源矩阵；淀积一薄膜弹性层；在薄膜待除层中形成一空腔阵列；淀积一弹性层并在其中形成一导管阵列；相继淀积一第二薄膜层、一薄膜电致移位层及一第一薄膜层并将它们制成图案，构成一致动的反射镜结构阵列；形成完全覆盖该阵列的一薄膜保护层；去除薄膜待除层；冲洗掉浸蚀剂；去除冲洗剂及薄膜保护层，而构成M×N个薄膜反射镜的阵列。

公开(公告)号：CN1164042A

公开(公告)日：1997-11-05

申请号：CN96119951.2

申请日：1996-10-03

Applicant: 大宇电子株式会社

Inventor： 郑在爀

IPC: G02F1/31 ,  G02B26/08 ,  G02B27/18

Abstract: 一种薄膜致动反射镜阵列的制造方法包括有以下步骤：提供一有源矩阵；在有源矩阵的顶上形成多个具有被平整的顶表面的绝缘层，在该多个绝缘层的顶表面上形成具有一空腔阵列的薄膜待除层；在该薄膜待除层的顶上形成一致动机构阵列，各致动机构包括一第一薄膜电极、一薄膜电致位移元件，一第二薄膜电极、一弹性元件及一导管；并去除该薄膜待除层，从而形成该薄膜致动反射镜阵列。提高了该阵列的整体光效率及性能。

公开(公告)号：CN1135610A

公开(公告)日：1996-11-13

申请号：CN95120413.0

申请日：1995-12-19

Applicant: 大宇电子株式会社

Inventor： 闵庸基 ,  具明权 ,  郑在爀

IPC: G02F1/00

CPC classification number: G02B26/0858 ,  Y10S359/90 ,  Y10S359/904

Abstract: 制造薄膜可驱动反射镜阵列的方法包括：提供有源矩阵；形成薄膜待除层；制出带尖角的空槽阵列；磨掉尖角；形成支持元件；沉淀弹性层；形成导线管；形成第二薄膜层；沉淀薄膜电致位移层；成型薄膜电致位移元件和第二薄膜电极阵列；沉淀绝缘层；成型绝缘和弹性元件阵列；去除薄膜待除层，从而提供驱动空间；形成阻光层，阻光材料也填充在驱动空间内；去除形成在各薄膜电致位移元件顶上的阻光层和绝缘元件；以及形成第一薄膜电极。