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公开(公告)号：JPWO2008108390A1
公开(公告)日：2010-06-17
申请号：JP2009502600
申请日：2008-03-05
Applicant: 宇部興産株式会社
Inventor： 田中 康裕 , 康裕 田中 , 陽師 藤田 , 陽師 藤田 , 渡辺 正徳 , 正徳 渡辺 , 麻友美 荒木 , 麻友美 荒木 , 真弥 滝川 , 真弥 滝川 , 修司 横山 , 修司 横山
IPC: C08F290/06 , C09D4/02 , C09D5/00 , C09D169/00
CPC classification number: C09D5/00
Abstract: 塗工作業性が良好な低粘度で、かつ、透明性、密着性、硬化性、保存安定性に優れた光硬化性組成物を提供する。ポリカーボネートジオールと(メタ)アクリル酸エステルとのエステル交換反応により製造され、少なくとも一つの末端に(メタ)アクリル基を有するポリカーボネートジオール(メタ)アクリレート誘導体を含有する光硬化性組成物である。また、その光硬化性組成物を硬化して得られる硬化物である。また、その光硬化性組成物を含有するハードコート剤である。
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公开(公告)号：JPWO2004016662A1
公开(公告)日：2005-12-02
申请号：JP2005502032
申请日：2003-08-19
Applicant: 宇部興産株式会社
Inventor： 元造 吉清 , 元造 吉清 , 俊史 福永 , 俊史 福永 , 佐藤 博 , 博 佐藤 , 利一 町田 , 利一 町田 , 池内 博通 , 博通 池内 , 武文 矢野 , 武文 矢野 , 田中 康裕 , 康裕 田中
IPC: C08F4/646 , B01J31/00 , C07F7/02 , C07F7/04 , C08F4/44 , C08F4/654 , C08F10/00 , C08F10/06 , C08F110/06 , C08F210/06 , C08F297/00 , C08F297/08
CPC classification number: C07F7/025 , C08F10/00 , C08F10/06 , C08F110/06 , C08F210/06 , C08F297/00 , C08F297/08 , C08F297/083 , Y10S526/904 , C08F4/6567 , C08F4/6465 , C08F2500/12 , C08F2500/15 , C08F2500/04 , C08F2500/20 , C08F2500/17
Abstract: 本発明は、水素レスポンスが高く、重合活性が高く、立体規則性が高く、溶融流動性の良好なα−オレフィン重合体又は共重合体を得るためのα−オレフィンの重合又は共重合用触媒、その触媒成分及びその触媒を用いたα−オレフィンの重合方法を提供することを目的とする。本発明は、化37又は38で表わされるα−オレフィンの重合又は共重合用触媒の触媒成分。(但し、化37において、R1は、炭素数1〜6の炭化水素基、R2は、炭素数1〜12の炭化水素基又は水素、R3は、炭素数1〜12の炭化水素基である。)(但し、化38において、R1は、炭素数1〜6の炭化水素基、RNは、環状アミノ基を示す。)
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公开(公告)号：JPWO2016024567A1
公开(公告)日：2017-07-13
申请号：JP2016542577
申请日：2015-08-10
Applicant: 宇部興産株式会社 , 国立大学法人山形大学
Inventor： 時任 静士 , 静士 時任 , 大介 熊木 , 大介 熊木 , 正史 儘田 , 正史 儘田 , 貴志 本間 , 貴志 本間 , 田中 康裕 , 康裕 田中 , 利一 町田 , 利一 町田 , 一成 垣田 , 一成 垣田 , 奈津子 山田 , 奈津子 山田
IPC: C07D519/00 , C09K11/06 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: C07D519/00 , C09B57/00 , C09D11/03 , C09K11/06 , H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/50 , Y02E10/549
Abstract: 本発明の課題は、電子の移動度(電界効果移動度)に優れ、大気中での安定性にも優れるベンゾビス(チアジアゾール)誘導体等を提供することである。本発明は、下記一般式(1)又は(2)で示される、分子内に芳香環に縮環した環状イミド構造を有するベンゾビス(チアジアゾール)誘導体等に関する:(式中、R、A及びZは所定の基を表す。)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2007119627A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：JP2008510906
申请日：2007-03-30
Applicant: 宇部興産株式会社
Inventor： 田中 康裕 , 康裕 田中 , 陽師 藤田 , 陽師 藤田 , 博子 貝瀬 , 博子 貝瀬 , 八尾 滋 , 滋 八尾 , 小畠 邦規 , 邦規 小畠 , 一子 鈴木 , 一子 鈴木 , 康治 藤本 , 康治 藤本
CPC classification number: C08L83/04 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08L83/00
Abstract: 耐熱性と透明性とを併せ持つシルセスキオキサン硬化物を提供すること。a)炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するカゴ形シルセスキオキサン類及びこれらのカゴ形シルセスキオキサン類の部分開裂構造体より選ばれる少なくとも1種の構造体から得られるシルセスキオキサン類のオリゴマー、b)同一分子内に少なくとも2個のSiH基を有する化合物、及びc)a)に記載以外の同一分子内に少なくとも2個の炭素−炭素二重結合を有する化合物、とを含む組成物を、d)ヒドロシリル化触媒の存在下で、結合生成して得られるシルセスキオキサン硬化物。
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公开(公告)号：JP3786138B2
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：JP2005502032
申请日：2003-08-19
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C08F4/654 , B01J31/00 , C07B61/00 , C07F7/02 , C07F7/04 , C08F4/44 , C08F10/00 , C08F10/06 , C08F110/06 , C08F210/06 , C08F297/00 , C08F297/08
CPC classification number: C07F7/025 , C08F10/00 , C08F10/06 , C08F110/06 , C08F210/06 , C08F297/00 , C08F297/08 , C08F297/083 , Y10S526/904 , C08F4/6567 , C08F4/6465 , C08F2500/12 , C08F2500/15 , C08F2500/04 , C08F2500/20 , C08F2500/17
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公开(公告)号：JPWO2013141182A1
公开(公告)日：2015-08-03
申请号：JP2014506211
申请日：2013-03-15
Applicant: 宇部興産株式会社 , 国立大学法人山形大学
Inventor： 時任 静士 , 静士 時任 , 大介 熊木 , 大介 熊木 , 秀好 島 , 秀好 島 , 小田 広行 , 広行 小田 , 田中 康裕 , 康裕 田中 , 一成 垣田 , 一成 垣田 , 利一 町田 , 利一 町田 , 米田 康洋 , 康洋 米田 , 洋治 小俣 , 洋治 小俣 , 哲郎 島野 , 哲郎 島野
IPC: C07D513/04 , C09D11/00 , H01L29/786 , H01L51/46 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: C07D513/04 , C08G61/123 , C08G61/126 , C08G2261/1642 , C08G2261/1644 , C08G2261/3223 , C08G2261/3246 , C08G2261/364 , C08G2261/414 , C08G2261/51 , C08G2261/91 , C08G2261/92 , C08G2261/95 , C09B57/00 , C09D11/52 , H01L27/3274 , H01L51/0071 , H01L51/0097 , H01L51/0545 , H01L51/42 , H01L51/5012 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L2251/5338 , Y02E10/549
Abstract: 本発明は、下記一般式(1)で示されるベンゾビス(チアジアゾール)誘導体に関する。(式中、Rは、少なくとも1つのフッ素原子を含む基(但し、フッ素原子(F)、およびトリフルオロメチル基(−CF3)を除く。)を示し、mは1〜10の整数を示す。)
Abstract translation: 本发明涉及由下述通式（1）表示Benzobisu（噻二唑）衍生物。 （式中，R是含有至少一个氟原子，表示的基团（提供。）不包括氟原子（F），和三氟甲基（--CF3）中，m表示1〜10的整数。 ）
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公开(公告)号：JP5347958B2
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：JP2009502600
申请日：2008-03-05
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C08F290/06 , C09D4/02 , C09D5/00 , C09D169/00
CPC classification number: C09D5/00
Abstract: Disclosed is a photocurable composition having good coatability and low viscosity, while being excellent in transparency, adhesiveness, curability and storage stability. Specifically disclosed is a photocurable composition containing a polycarbonatediol (meth)acrylate derivative which is produced by an ester exchange reaction between a polycarbonatediol and a (meth)acrylate and contains a (meth)acrylic group at at least one end. Also disclosed is a cured product obtained by curing such a photocurable composition. Further disclosed is a hard coating agent containing such a photocurable composition.
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