公开(公告)号：JP5338798B2

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：JP2010282141

申请日：2010-12-17

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 繁栄 西野 ,  健二 弘津 ,  秀好 島 ,  忍 鈴木

IPC: C07D309/30 ,  C07B61/00 ,  C07C49/185 ,  C07D309/38

CPC classification number: C07D309/38 ,  C07C45/00 ,  C07C49/185 ,  C07D309/30

Abstract: The present invention relates to a process for preparing tetrahydropyran-4-one represented by the formula (1): which comprises reacting at least one kind of dihydropyran-4-one and pyran-4-one represented by the formula (2): wherein represents a single bond or a double bond, and hydrogen (a) in the presence of a metal catalyst, in a mixed solvent of an aprotic solvent and an alcohol solvent, or (b) in the presence of an anhydrous metal catalyst in which a hydrated metal catalyst is subjected to dehydration treatment, in a hydrophobic organic solvent.

公开(公告)号：JP5233675B2

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：JP2008544165

申请日：2007-11-14

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 修司 横山 ,  潤一 親 ,  忍 鈴木 ,  修二 山田

IPC: C07D211/34 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07D211/34

公开(公告)号：JP4569876B2

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：JP2005512534

申请日：2004-07-30

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 広行 小田 ,  秀好 島 ,  健二 弘津 ,  繁栄 西野 ,  忍 鈴木

IPC: C07D239/88 ,  C07B61/00 ,  C07C67/31

CPC classification number: C07D239/88 ,  C07C67/31 ,  C07C69/92

公开(公告)号：JP5499572B2

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：JP2009202152

申请日：2009-09-02

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 健二 弘津 ,  庄司 敷田 ,  忍 鈴木 ,  崇司 原田

IPC: C07D309/08

公开(公告)号：JP4517349B2

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：JP2004220551

申请日：2004-07-28

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 秀好 島 ,  健二 弘津 ,  繁栄 西野 ,  忍 鈴木

IPC: C07D239/36 ,  C07D239/70

公开(公告)号：JP5152680B2

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：JP2009166062

申请日：2009-07-14

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 繁栄 西野 ,  健二 弘津 ,  秀好 島 ,  崇司 原田 ,  広行 小田 ,  高橋　　毅 ,  忍 鈴木

IPC: C07C209/36 ,  C07B61/00 ,  C07C67/307 ,  C07C69/734 ,  C07C201/06 ,  C07C201/08 ,  C07C205/59 ,  C07C205/60 ,  C07C227/04 ,  C07C229/56 ,  C07C229/64 ,  C07D239/88 ,  C07D239/90

CPC classification number: C07D239/88 ,  C07C67/31 ,  C07C69/92 ,  C07C201/08 ,  C07C205/59 ,  C07C205/60 ,  C07C227/04 ,  C07C229/56 ,  C07C229/64 ,  C07D239/90

Abstract: A process for producing a quinazolin-4-one compound having the formula: Äwherein R , R , R and R each represents a group not participating in the below-mentioned reaction, and R , R , R and R can be combined together to form a ringÜ which comprises reacting an anthranilic acid derivative having the formula: Äwherein R is a hydrogen atom or a hydrocarbyl groupÜ with a formic acid derivative in the presence of an ammonium carboxylate.

公开(公告)号：JP5034277B2

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：JP2006066337

申请日：2006-03-10

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 圭司 岩本 ,  秀好 島 ,  健二 弘津 ,  庄司 敷田 ,  繁栄 西野 ,  忍 鈴木

IPC: C07D309/06 ,  C07B61/00

公开(公告)号：JP4687464B2

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：JP2005516480

申请日：2004-12-17

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 秀好 島 ,  健二 弘津 ,  繁栄 西野 ,  忍 鈴木

IPC: C07D309/30 ,  B01J23/44 ,  C07C45/45 ,  C07C49/185 ,  C07D309/32 ,  C07D309/38

CPC classification number: C07D309/38 ,  C07C45/00 ,  C07C49/185 ,  C07D309/30

公开(公告)号：JP4591349B2

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：JP2005511576

申请日：2004-07-14

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 崇司 原田 ,  圭司 岩本 ,  秀好 島 ,  健二 弘津 ,  繁栄 西野 ,  忍 鈴木

IPC: C07D309/14 ,  B01J23/42 ,  B01J23/44 ,  B01J23/72 ,  B01J25/02 ,  C07B61/00 ,  C07D309/10

CPC classification number: C07D309/10 ,  C07D309/14

公开(公告)号：JPWO2008059862A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：JP2008544165

申请日：2007-11-14

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 修司 横山 ,  修司 横山 ,  潤一 親 ,  潤一 親 ,  鈴木　忍 ,  忍 鈴木 ,  修二 山田 ,  修二 山田

IPC: C07D211/34

CPC classification number: C07D211/34

Abstract: 本発明は、(a)ロジウム化合物及び光学活性ビヘテロアリールジホスフィン配位子、(b)ロジウム化合物と光学活性ビヘテロアリールジホスフィン配位子との反応によって得られるロジウム錯体、(c)ロジウム化合物及び光学活性シクロファンジホスフィン配位子、又は(d)ロジウム化合物と光学活性シクロファンジホスフィン配位子との反応によって得られるロジウム錯体の存在下、一般式(1):式中、Rは、炭素数1〜4のアルキル基を示す、で示される2−(2’−ピペリジリデン)酢酸エステルと水素を反応させることを特徴とする、一般式(2):式中、Rは、前記と同義であり、*は、不斉炭素を示す、で示される光学活性2−(2’−ピペリジニル)酢酸エステルの製法に関する。