ポリカーボネートジオール及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2018012847A

    公开(公告)日:2018-01-25

    申请号:JP2017209599

    申请日:2017-10-30

    Abstract: 【課題】 ハンドリング性に優れ、比較的ガラス転移点の低いポリカーボネートジオールを提供する。 【解決手段】 下記式(1)で表される繰り返し単位と、下記式(2)で表される繰り返し単位を有し、分子の両末端に一つずつ水酸基を有するポリカーボネートジオールである。R 1 及びR 2 は、それぞれ独立に炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表し、R 3 は、炭素数2〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。 【選択図】 なし

    ポリチオウレタン
    4.
    发明申请
    ポリチオウレタン 审中-公开
    聚硫

    公开(公告)号:WO2005105883A1

    公开(公告)日:2005-11-10

    申请号:PCT/JP2005/008550

    申请日:2005-04-28

    CPC classification number: C08G75/28 C08G18/4676 G02B1/04 C08L75/04

    Abstract: Disclosed is a polythiourethane having high refractive index and low dispersibility which is obtained through a reaction between a polythiol component containing one or more polythiocarbonate polythiol (preferably one having a -(CO-S-R-S)- structure (wherein R represents a divalent hydrocarbon group) and a number average molecular weight of 200-2,500) and a polyisocyanate component containing a polyisocyanate and/or a polyisothiocyanate. This polythiourethane is useful for plastic lenses, prisms, optical fibers, substrates for information recording, colored filters, infrared absorbing filters and the like.

    Abstract translation: 公开了具有高折射率和低分散性的聚硫氨酯,其通过含有一种或多种聚硫代碳酸酯多硫醇(优选具有 - (CO-SRS) - 结构(其中R表示二价烃基)的多硫醇组分和 数均分子量为200-2,500)和含有多异氰酸酯和/或多异硫氰酸酯的多异氰酸酯组分。 该聚硫氨酯可用于塑料透镜,棱镜,光纤,信息记录用基板,彩色滤光片,红外吸收滤光片等。

    修飾ポリロタキサン、その組成物、及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2017214498A

    公开(公告)日:2017-12-07

    申请号:JP2016109666

    申请日:2016-06-01

    Abstract: 【課題】 本発明の課題は、ポリオール化合物との相溶性が高いポリロタキサンを提供することである。 【解決手段】 本発明の課題は、末端の水酸基がポリエチレングリコール構造を有する官能基(B)により修飾されている修飾ポリロタキサンであって、環状分子(Aa)がシクロデキストリンであり、そのシクロデキストリンの水酸基の一部または全部がヒドロキシプロピル基と結合し、このポリロタキサン中の水酸基がカプロラクトン由来の基である修飾基(Ad)で修飾され、この修飾ポリロタキサンのHLBが1〜19であり、官能基(B)によるポリロタキサン(A)中に存在する水酸基の修飾の割合が0%である未修飾ポリロタキサンの、ポリオール化合物への相溶性比を1とした時、当該相溶性比が1.2〜4.0である、修飾ポリロタキサンによって解決される。 【選択図】 図2

    ポリカーボネートジオール及びその製造方法
    6.
    发明专利
    ポリカーボネートジオール及びその製造方法 审中-公开
    聚碳酸酯及其制造方法

    公开(公告)号:JP2016191075A

    公开(公告)日:2016-11-10

    申请号:JP2016160992

    申请日:2016-08-19

    Abstract: 【課題】 ハンドリング性に優れ、比較的ガラス転移点の低いポリカーボネートジオールを提供する。 【解決手段】 下記式(1)で表される繰り返し単位と、下記式(2)で表される繰り返し単位を有し、分子の両末端に一つずつ水酸基を有するポリカーボネートジオールである。 R 1 及びR 2 は、それぞれ独立に炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表し、R 3 は、炭素数2〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。 【選択図】 なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供可处理性优异且玻璃化转变点较低的聚碳酸酯。溶液:聚碳酸二醇具有式(1)表示的重复单元和式(2)表示的重复单元, 羟基在两个分子末端。 在式中,兰德依赖地代表1-10C直链或支链亚烷基; 并表示2-12C直链或支链亚烷基。选择图:无

    ポリカーボネートジオール及びその製造方法

    公开(公告)号:JP6245403B1

    公开(公告)日:2017-12-13

    申请号:JP2017172826

    申请日:2017-09-08

    Abstract: 【課題】 ハンドリング性に優れ、比較的ガラス転移点の低いポリカーボネートジオールを提供する。 【解決手段】 下記式(1)で表される繰り返し単位と、下記式(2)で表される繰り返し単位を有し、分子の両末端に一つずつ水酸基を有するポリカーボネートジオールである。 R 1 及びR 2 は、それぞれ独立に炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表し、R 3 は、炭素数2〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。 【選択図】 なし

    修飾ポリロタキサン、その組成物、及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2017110211A

    公开(公告)日:2017-06-22

    申请号:JP2016240055

    申请日:2016-12-12

    Abstract: 【課題】 本発明の課題は、ポリオール化合物との相溶性が高いポリロタキサンを提供することである。 【解決手段】 本発明の課題は、1又は複数の水酸基が、修飾されている修飾ポリロタキサンであって、環状分子(Aa)がシクロデキストリンであり、そのシクロデキストリンの水酸基の一部又は全部がヒドロキシプロピル基と結合し、このポリロタキサン中の水酸基の一部又は全部がカプロラクトン由来の修飾基(Ad)で修飾され、官能基(B)によるポリロタキサン(A)中に存在する水酸基の修飾の割合がポリロタキサン(A)に存在する水酸基に対し10〜50%であって、官能基(B)によるポリロタキサン(A)中に存在する水酸基の修飾の割合が0%である未修飾ポリロタキサンの、ポリオール化合物への相溶性を1とした時、当該相溶性比が1.2〜15である、修飾ポリロタキサンによって解決される。 【選択図】 図1

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