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公开(公告)号:CN1160186C
公开(公告)日:2004-08-04
申请号:CN00808385.1
申请日:2000-05-30
Applicant: 宾夕法尼亚州研究基金会
CPC classification number: B81C1/0038 , B81C1/00047 , B81C2201/0115 , B81C2201/0139 , B81C2201/018 , C23C16/24 , C23C16/511 , G01N21/17 , G01N27/121 , G01N27/44717 , G01N30/6095 , H01J49/0418 , Y10T428/24174 , Y10T428/249953
Abstract: 公开了一种新型多孔薄膜(3),包含在连续空隙中的硅柱网络,可以使用高密度等离子体沉积在低温即低于约250℃来制备。这种硅薄膜是棒状柱的二维纳米尺寸的排列。这种空隙-柱形态可以用沉积条件控制,孔隙率可以改变到高达90%。在所利用的等离子体方法中低温沉积和蚀刻的同时使用提供了同时获得柱状结构、连续空隙和多晶柱组成的独特机会。使用这种多孔连续薄膜通过该薄膜在玻璃、金属箔、绝缘体或塑料基材(5)上的等离子体沉积可以制造独特的装置。
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公开(公告)号:CN1379712A
公开(公告)日:2002-11-13
申请号:CN00808385.1
申请日:2000-05-30
Applicant: 宾夕法尼亚州研究基金会
CPC classification number: B81C1/0038 , B81C1/00047 , B81C2201/0115 , B81C2201/0139 , B81C2201/018 , C23C16/24 , C23C16/511 , G01N21/17 , G01N27/121 , G01N27/44717 , G01N30/6095 , H01J49/0418 , Y10T428/24174 , Y10T428/249953
Abstract: 公开了一种新型多孔薄膜(3),包含在连续空隙中的硅柱网络,可以使用高密度等离子体沉积在低温即低于约250℃来制备。这种硅薄膜是棒状柱的二维纳米尺寸的排列。这种空隙-柱形态可以用沉积条件控制,孔隙率可以改变到高达90%。在所利用的等离子体方法中低温沉积和蚀刻的同时使用提供了同时获得柱状结构、连续空隙和多晶柱组成的独特机会。使用这种多孔连续薄膜通过该薄膜在玻璃、金属箔、绝缘体或塑料基材(5)上的等离子体沉积可以制造独特的装置。
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公开(公告)号:CN1238721C
公开(公告)日:2006-01-25
申请号:CN00817491.1
申请日:2000-12-19
Applicant: 宾夕法尼亚州研究基金会
CPC classification number: C23C16/511 , B81B2201/0214 , B81C1/0038 , B81C2201/0176 , C23C16/24 , G01N21/17 , G01N27/44717 , Y10T436/119163 , Y10T436/25 , Y10T436/2575
Abstract: 本发明涉及沉积的薄膜在化学或生物学分析中的应用。本发明还涉及这些薄膜在分离附着和化学或生物样品的检测中的应用。这些薄膜的应用包括解吸-离子化质谱分析、有机薄膜和分子的电触点、用于分析的光能的光耦合、生物材料的操作、色谱分离、液面上空间吸附介质、原子分子吸附或附着的介质和细胞附着的基板。
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公开(公告)号:CN1413261A
公开(公告)日:2003-04-23
申请号:CN00817491.1
申请日:2000-12-19
Applicant: 宾夕法尼亚州研究基金会
IPC: C12Q1/00 , G01N33/53 , G01N33/567 , G01N15/06 , G01N33/00 , G01N33/48 , G01N27/00 , G01N21/29 , G01N21/41 , G01N21/47
CPC classification number: C23C16/511 , B81B2201/0214 , B81C1/0038 , B81C2201/0176 , C23C16/24 , G01N21/17 , G01N27/44717 , Y10T436/119163 , Y10T436/25 , Y10T436/2575
Abstract: 本发明涉及沉积的薄膜在化学或生物学分析中的应用。本发明还涉及这些薄膜在分离附着和化学或生物样品的检测中的应用。这些薄膜的应用包括解吸-离子化质谱分析、有机薄膜和分子的电触点、用于分析的光能的光耦合、生物材料的操作、色谱分离、液面上空间吸附介质、原子分子吸附或附着的介质、和细胞附着的基板。
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