液晶性组合物、光学各向异性膜、光学薄膜、偏振片以及液晶显示装置

    公开(公告)号:CN101250412B

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN200810082214.2

    申请日:2008-02-22

    Abstract: 一种液晶性组合物,其含有至少一种液晶化合物和至少一种下述通式(1-1)所表示的含有氟代脂肪族基团的聚合物。在通式(1-1)中,i以及j分别表示1以上的整数,且是指各重复单元分别含有i以及j种;M是从烯属不饱和单体衍生得到且含有k(k是1以上的整数)种的重复单元;a、b以及c是表示聚合比的质量百分率,∑ai表示1~98质量%的数值,∑bj表示1~98质量%的数值,∑ck表示1~98质量%的数值;R11以及R12分别表示氢原子或甲基;X1以及X2分别表示氧原子、硫原子或-N(R13)-,R13表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基;m1以及m2分别表示1~6的整数,n1表示0~1的整数。通式(1-1)

    抗反射膜制备方法和装置

    公开(公告)号:CN101063720A

    公开(公告)日:2007-10-31

    申请号:CN200710101072.5

    申请日:2007-04-26

    CPC classification number: G02B1/111

    Abstract: 抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层和低折射率层,所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上,并且具有比所述光学功能层更低的折射率。制备这种抗反射膜的抗反射膜制备装置包含:涂布机,所述涂布机使用形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层。干燥机促进所述涂层的干燥。加热器使来自所述干燥机的所述涂层在第一温度水平硬化,然后使所述涂层在高于第一温度水平的第二温度水平硬化以形成所述低折射率层。优选地,所述第一和第二温度水平之差为1-50℃。而且,在所述加热器的所述硬化之后,对所述低折射率层施加紫外线。

    光学薄膜的制造方法及光学薄膜

    公开(公告)号:CN101520576A

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200910008363.9

    申请日:2009-02-26

    Abstract: 本发明涉及光学薄膜的制造方法及光学薄膜,其提供一种通过在基体薄膜背面及涂布膜面附着已气化的低分子量化合物来制造没有污染不均的光学薄膜的方法。该制造方法是在连续输送的带状基体薄膜(14)上涂布固化性涂布液,在干燥区(32)利用加热风干燥涂布层,然后在固化区(36)使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法,其中,在干燥区(32)与固化区(36)之间隔着间隔设置中间区(34),同时将中间区(34)的温度控制成低于干燥区(32)的温度和固化区(36)的温度的任意一方,而且,利用结露抑制机构防止在干燥区(32)及固化区(36)发生的已气化的低分子量化合物的结露。

    液晶性组合物、光学各向异性膜、光学薄膜、偏振片以及液晶显示装置

    公开(公告)号:CN101250412A

    公开(公告)日:2008-08-27

    申请号:CN200810082214.2

    申请日:2008-02-22

    Abstract: 一种液晶性组合物,其含有至少一种液晶化合物和至少一种下述通式(1-1)所表示的含有氟代脂肪族基团的聚合物。在通式(1-1)中,i以及j分别表示1以上的整数,且是指各重复单元分别含有i以及j种;M是从烯属不饱和单体衍生得到且含有k(k是1以上的整数)种的重复单元;a、b以及c是表示聚合比的质量百分率,∑ai表示1~98质量%的数值,∑bj表示1~98质量%的数值,∑ck表示1~98质量%的数值;R11以及R12分别表示氢原子或甲基;X1以及X2分别表示氧原子、硫原子或-N(R13)-,R13表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基;m1以及m2分别表示1~6的整数,n1表示0~1的整数。

    缺陷检测方法及装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101587081B

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:CN200910149761.2

    申请日:2009-03-27

    Abstract: 本发明涉及缺陷检测方法及装置。使膜在配置于十字尼科耳的第一偏振片和第二偏振片之间走行。卤素灯经由第一偏振片对膜照射光。卤素灯发出的光中仅存在一条辉线。由于膜上的缺陷等使辉度发生变化的光经由第二偏振片和除去光学系统入射至光接收器。对光接收器的输出信号进行微分处理。根据被实施微分处理的微分处理信号检测出极大信号和极小信号。求得预先设定的基准信号的辉度值与所述极大信号的辉度值的差作为第一差分值,并且求得基准信号的辉度值与极小信号的辉度值的差作为第二差分值。当将第一差分值和第二差分值相加求得的相加值为一定值以上时,则确定极大信号和极小信号为缺陷信号。

    缺陷检测方法及装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101587081A

    公开(公告)日:2009-11-25

    申请号:CN200910149761.2

    申请日:2009-03-27

    Abstract: 本发明涉及缺陷检测方法及装置。使膜在配置于十字尼科耳的第一偏振片和第二偏振片之间走行。卤素灯经由第一偏振片对膜照射光。卤素灯发出的光中仅存在一条辉线。由于膜上的缺陷等使辉度发生变化的光经由第二偏振片和除去光学系统入射至光接收器。对光接收器的输出信号进行微分处理。根据被实施微分处理的微分处理信号检测出极大信号和极小信号。求得预先设定的基准信号的辉度值与所述极大信号的辉度值的差作为第一差分值,并且求得基准信号的辉度值与极小信号的辉度值的差作为第二差分值。当将第一差分值和第二差分值相加求得的相加值为一定值以上时,则确定极大信号和极小信号为缺陷信号。

    光学薄膜的制造方法及光学薄膜

    公开(公告)号:CN101520576B

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN200910008363.9

    申请日:2009-02-26

    Abstract: 本发明涉及光学薄膜的制造方法及光学薄膜,其提供一种通过在基体薄膜背面及涂布膜面附着已气化的低分子量化合物来制造没有污染不均的光学薄膜的方法。该制造方法是在连续输送的带状基体薄膜(14)上涂布固化性涂布液,在干燥区(32)利用加热风干燥涂布层,然后在固化区(36)使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法,其中,在干燥区(32)与固化区(36)之间隔着间隔设置中间区(34),同时将中间区(34)的温度控制成低于干燥区(32)的温度和固化区(36)的温度的任意一方,而且,利用结露抑制机构防止在干燥区(32)及固化区(36)发生的已气化的低分子量化合物的结露。

    光学薄膜的制造方法及光学薄膜

    公开(公告)号:CN101324679B

    公开(公告)日:2011-08-24

    申请号:CN200810081447.0

    申请日:2008-02-22

    CPC classification number: C09K19/542 C09K2019/0429 G02B5/3016 Y10T428/1086

    Abstract: 一种光学薄膜的制造方法,将含有液晶性化合物的涂布液以4.5~12mL/m2涂布于行进的带状柔性支承体上后,将涂布液干燥、固化形成光学各向异性层,涂布液含有包含由下述(i)的单体导出的重复单元的含氟代脂肪族基单体,且满足下述(ii)条件:(i)是包含末端结构以-(CF2CF2)3F表示的第一含氟代脂肪族基单体、末端结构以-(CF2CF2)2F表示的第二含氟代脂肪族基单体的含氟代脂肪族基共聚物;(ii)涂布液中含氟代脂肪族基聚合物浓度C(质量%)与该含氟代脂肪族基聚合物中氟含量F(%)的乘积C×F为0.05~0.12时涂布液的利用最大泡压法测定的10毫秒后与1000毫秒后的表面张力比为1.0~1.2。

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