感放射线性树脂组合物的制造方法

    公开(公告)号:CN113767333B

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202080032434.3

    申请日:2020-05-12

    Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物的制造方法,其抑制所形成的图案的缺陷的产生,并且抑制了长期保管后的灵敏度的变动。感放射线性树脂组合物的制造方法具有:工序1,在搅拌槽中至少投入通过酸的作用而极性增大的树脂、光产酸剂及溶剂;及工序2,在搅拌槽内,在非活性气体的浓度为90体积%以上的气体下,将通过酸的作用而极性增大的树脂、光产酸剂及溶剂搅拌混合,从而制造感放射线性树脂组合物,在工序2中,搅拌槽内的气压比搅拌槽外的气压高,在工序2中,搅拌槽内的气压与搅拌槽外的气压之差为2.0kPa以下。

    感放射线性树脂组合物的制造方法

    公开(公告)号:CN113767333A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202080032434.3

    申请日:2020-05-12

    Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物的制造方法,其抑制所形成的图案的缺陷的产生,并且抑制了长期保管后的灵敏度的变动。感放射线性树脂组合物的制造方法具有:工序1,在搅拌槽中至少投入通过酸的作用而极性增大的树脂、光产酸剂及溶剂;及工序2,在搅拌槽内,在非活性气体的浓度为90体积%以上的气体下,将通过酸的作用而极性增大的树脂、光产酸剂及溶剂搅拌混合,从而制造感放射线性树脂组合物,在工序2中,搅拌槽内的气压比搅拌槽外的气压高,在工序2中,搅拌槽内的气压与搅拌槽外的气压之差为2.0kPa以下。

    感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN115803683A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202180048994.2

    申请日:2021-07-02

    Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、及能够通过电子器件的制造方法形成CDU优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法,所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂A及酸分解性树脂B,其中,关于上述树脂A和上述树脂B,具有酸分解性基团的重复单元的摩尔基准的含有率的差的绝对值为5~20摩尔%,酸分解性基团的结构相同,质量基准的含有率的比为10/90~90/10,重均分子量的差的绝对值为100~5000,分子量分布的差的绝对值为0.05以上。

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