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公开(公告)号：CN103582847A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201280026472.3
申请日：2012-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
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公开(公告)号：CN103582847B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201280026472.3
申请日：2012-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104330957A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201410602459.9
申请日：2012-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/32 , C08F220/12
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
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公开(公告)号：CN103562795A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280010692.7
申请日：2012-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40
Abstract: 一种图案形成方法，其含有(i)藉由感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜的步骤，所述树脂组成物含有(P)具有(a)由特定式表示的重复单元的树脂，以及(B)能够在用光化射线或放射线照射后产生有机酸的化合物；(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)藉由使用含有机溶剂的显影剂使膜显影以形成负型图案的步骤。
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公开(公告)号：CN104330957B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201410602459.9
申请日：2012-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/32 , C08F220/12
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
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公开(公告)号：CN103562795B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201280010692.7
申请日：2012-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40
Abstract: 一种图案形成方法，其含有(i)藉由感光化射线性或感放射线性树脂组成物形成膜的步骤，所述树脂组成物含有(P)具有(a)由特定式表示的重复单元的树脂，以及(B)能够在用光化射线或放射线照射后产生有机酸的化合物；(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)藉由使用含有机溶剂的显影剂使膜显影以形成负型图案的步骤。
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公开(公告)号：CN104823109A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201380061591.7
申请日：2013-11-15
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/038 , C08F212/08 , C08F216/10 , C08F216/165 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/1825 , C08F2220/283 , C08F2220/285 , C08L33/06 , G03F7/0397 , G03F7/325
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用其的图案形成方法、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法及电子元件，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的曝光宽容度(EL)及线宽粗糙度(LWR)优异，进而阶差基板上的间隙图案的显影性优异，尤其适于利用有机溶剂显影的负型图案形成方法，其中也适于KrF曝光。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)，该树脂(A)含有芳香族基及(i)具有因酸的作用发生分解而产生极性基的基团的重复单元，也可含有(ii)具有酚性羟基以外的极性基的重复单元，并且相对于树脂(A)中的所有重复单元，上述(i)及(ii)的重复单元的合计量为51mol％以上。
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