-
公开(公告)号：CN103998644B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201280063717.X
申请日：2012-12-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/34 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J37/3441
Abstract: 在一些实施例中，基板处理设备可包括：腔室主体；设置在腔室主体顶部的盖；耦接至盖的靶组件，该靶组件包括待沉积在基板上的材料靶；具有绕靶的外边缘设置的内壁的环形暗区屏蔽；邻近暗区屏蔽的外边缘设置的密封环；以及支撑构件，该支撑构件耦接至贴近支撑构件的外端的盖并径向向内延伸，以使支撑构件支撑密封环和环形暗区屏蔽，其中支撑构件在耦接至盖时提供充分的压缩以在支撑构件与密封环和密封环与靶组件之间形成密封。
-
公开(公告)号：CN109346395A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811141793.3
申请日：2014-11-11
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文提供用于基板处理腔室的靶材组件的实施方式。在一些实施方式中，靶材组件包括：板，所述板包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面；靶材，所述靶材设置于所述中央部分上；多个凹槽，所述多个凹槽形成于所述支撑部分中；及多个垫，所述多个垫部分地设置于所述多个凹槽中。
-
公开(公告)号：CN105874565A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201480061815.9
申请日：2014-11-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/203
Abstract: 本文提供用于基板处理腔室的靶材组件的实施方式。在一些实施方式中，靶材组件包括：板，所述板包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面；靶材，所述靶材设置于所述中央部分上；多个凹槽，所述多个凹槽形成于所述支撑部分中；及多个垫，所述多个垫部分地设置于所述多个凹槽中。
-
公开(公告)号：CN103998644A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201280063717.X
申请日：2012-12-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/34 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J37/3441
Abstract: 在一些实施例中，基板处理设备可包括：腔室主体；设置在腔室主体顶部的盖；耦接至盖的靶组件，该靶组件包括待沉积在基板上的材料靶；具有绕靶的外边缘设置的内壁的环形暗区屏蔽；邻近暗区屏蔽的外边缘设置的密封环；以及支撑构件，该支撑构件耦接至贴近支撑构件的外端的盖并径向向内延伸，以使支撑构件支撑密封环和环形暗区屏蔽，其中支撑构件在耦接至盖时提供充分的压缩以在支撑构件与密封环和密封环与靶组件之间形成密封。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.028 seconds)
