公开(公告)号：CN101131910A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200710110708.2

申请日：2003-03-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 西奥多·H·斯米奇克 ,  逆濑卓郎 ,  弗兰克·D·罗伯茨 ,  杰弗里·吕丁 ,  马文·法利 ,  阿德里安·默雷尔 ,  彼得·爱德华兹 ,  伯纳德·哈里森

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/18 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/20 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/20278 ,  H01L21/682 ,  H01L21/6835

Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X－Y扫描)上运动。在第一方向上的扫描是纵向贯穿在真空室壁上孔(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于导引板(100)支撑，以便于为臂相对于导引板(100)提供悬臂支撑。为臂(60)进入真空室的适应性穿通装置(130)然后担当真空密封和引导件，但其自身不要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离束线，以允许在注入之前实现束分布的确定。

公开(公告)号：CN100343942C

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：CN03808120.2

申请日：2003-03-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 西奥多·H·斯米奇克 ,  逆濑卓郎 ,  弗兰克·D·罗伯茨 ,  杰弗里·吕丁 ,  马文·法利 ,  阿德里安·默雷尔 ,  彼得·爱德华兹 ,  伯纳德·哈里森

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/18 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/20 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/20278 ,  H01L21/682 ,  H01L21/6835

Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X-Y扫描)上的移动。在第一方向上的扫描是纵向穿过在真空室壁上开口(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于滑片(100)支撑，以便于为臂相对于滑片(100)提供悬臂支撑。用于臂(60)的进入真空室的适应性穿通装置(130)然后作为真空密封和导引，但其自身不需要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现射束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离射束线，以允许在注入之前实现射束分布的确定。

公开(公告)号：CN101131910B

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200710110708.2

申请日：2003-03-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 西奥多·H·斯米奇克 ,  逆濑卓郎 ,  弗兰克·D·罗伯茨 ,  杰弗里·吕丁 ,  马文·法利 ,  阿德里安·默雷尔 ,  彼得·爱德华兹 ,  伯纳德·哈里森

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/18 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/20 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/20278 ,  H01L21/682 ,  H01L21/6835

Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X-Y扫描)上运动。在第一方向上的扫描是纵向贯穿在真空室壁上孔(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于导引板(100)支撑，以便于为臂相对于导引板(100)提供悬臂支撑。为臂(60)进入真空室的适应性穿通装置(130)然后担当真空密封和引导件，但其自身不要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离束线，以允许在注入之前实现束分布的确定。

公开(公告)号：CN1647235A

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN03808120.2

申请日：2003-03-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 西奥多·H·斯米奇克 ,  逆濑卓郎 ,  弗兰克·D·罗伯茨 ,  杰弗里·吕丁 ,  马文·法利 ,  阿德里安·默雷尔 ,  彼得·爱德华兹 ,  伯纳德·哈里森

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/18 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/20 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/20278 ,  H01L21/682 ,  H01L21/6835

Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X－Y扫描)上的移动。在第一方向上的扫描是纵向穿过在真空室壁上开口(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于滑片(100)支撑，以便于为臂相对于滑片(100)提供悬臂支撑。用于臂(60)的进入真空室的适应性穿通装置(130)然后作为真空密封和导引，但其自身不需要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现射束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离射束线，以允许在注入之前实现射束分布的确定。