公开(公告)号：CN105849310B

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：CN201380081823.5

申请日：2013-12-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： F·皮耶拉利西 ,  W·克莱恩 ,  R·林德伯格 ,  W·布施贝克 ,  J·斯罗伊德

IPC: C23C16/458

Abstract: 提供一种用于在真空层沉积期间保持基板(20)的保持设备(10)。所述保持设备(10)包括：框架，所述框架具有一或多个框架元件；以及一或多个接触界面(50、500)，所述一或多个接触界面提供在所述框架元件中的一或多个处，并且被配置来接触输送系统的一或多个输送辊(60)，其中所述一或多个接触界面(50、500)的材料的萧氏D硬度在85至90的范围内。

公开(公告)号：CN106460165A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201480078893.X

申请日：2014-05-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·斯罗伊德 ,  H-G·洛茨

IPC: C23C14/54 ,  G01B11/06 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  G01N21/55 ,  G01N21/59 ,  G01N21/47

CPC classification number: C23C14/547 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  C23C16/545 ,  G01B21/047 ,  G01N21/4738 ,  G01N21/474 ,  G01N21/55 ,  G01N21/59 ,  G01N21/8422 ,  G01N21/8901 ,  G01N21/896 ,  G01N21/93 ,  G01N2201/12746

Abstract: 根据本公开的一个方面，提供一种用于处理基板(15)上的材料的设备(40)。所述设备(40)包括真空腔室和测量布置，所述测量布置被配置成用于测量所述基板和/或在所述基板上处理的材料的一或多个光学性质，所述测量布置包括位于所述真空腔室中的至少一个球体结构。

公开(公告)号：CN105849310A

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201380081823.5

申请日：2013-12-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： F·皮耶拉利西 ,  W·克莱恩 ,  R·林德伯格 ,  W·布施贝克 ,  J·斯罗伊德

IPC: C23C16/458 ,  C23C14/50 ,  B65G49/06

CPC classification number: C23C16/4587 ,  C23C14/50

Abstract: 提供一种用于在真空层沉积期间保持基板(20)的保持设备(10)。所述保持设备(10)包括：框架，所述框架具有一或多个框架元件；以及一或多个接触界面(50、500)，所述一或多个接触界面提供在所述框架元件中的一或多个处，并且被配置来接触输送系统的一或多个输送辊(60)，其中所述一或多个接触界面(50、500)的材料的萧氏D硬度在85至90的范围内。