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公开(公告)号：CN103098182B
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201180044017.1
申请日：2011-08-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B24B41/06 , B24B37/32 , B24B41/067
Abstract: 一种用于化学机械抛光机的载具头包括底座、基板安装表面、环形内环和环形外环。内环具有配置为圆周地环绕定位于基板安装表面上的基板的边缘的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。内环相对于基板安装表面而可垂直移动。外环具有圆周地环绕内环的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。外环相对于且独立于基板安装表面和内环而可垂直移动。内环的下表面具有第一宽度，且外环的下表面具有大于第一宽度的第二宽度。
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公开(公告)号：CN102725826B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201180007442.3
申请日：2011-01-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: 本发明实施例涉及利用圆片刷清洁基板的设备与方法。一实施例提供基板清洁器，基板清洁器包括配置于处理空间中的基板夹盘以及配置于处理空间中的刷具组件，其中刷具组件包括与基板夹盘相对且可移动地配置的圆片刷，且圆片刷的处理表面接触基板夹盘上基板的表面。
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公开(公告)号：CN102341901B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201080010832.1
申请日：2010-01-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J15/08
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/68707
Abstract: 提供了用于在电子元件制造中移动基板的系统、方法及设备。在一些方面中，提供了具有基座部分及至少三个垫的末端执行器。每个所述垫的具有一个接触表面，且至少一个接触表面具有曲面形状。由末端执行器所支撑的基板可以相对高的横向惯性力移动，而不会相对于垫产生大幅度滑动。本发明还提供了附加的方面。
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公开(公告)号：CN103098182A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201180044017.1
申请日：2011-08-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B24B41/06 , B24B37/32 , B24B41/067
Abstract: 一种用于化学机械抛光机的载具头包括底座、基板安装表面、环形内环和环形外环。内环具有配置为圆周地环绕定位于基板安装表面上的基板的边缘的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。内环相对于基板安装表面而可垂直移动。外环具有圆周地环绕内环的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。外环相对于且独立于基板安装表面和内环而可垂直移动。内环的下表面具有第一宽度，且外环的下表面具有大于第一宽度的第二宽度。
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公开(公告)号：CN102341901A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN201080010832.1
申请日：2010-01-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J15/08
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/68707
Abstract: 提供了用于在电子元件制造中移动基板的系统、方法及设备。在一些方面中，提供了具有基座部分及至少三个垫的末端执行器。每个所述垫的具有一个接触表面，且至少一个接触表面具有曲面形状。由末端执行器所支撑的基板可以相对高的横向惯性力移动，而不会相对于垫产生大幅度滑动。本发明还提供了附加的方面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111742401A
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201980014053.X
申请日：2019-02-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , C23C16/455
Abstract: 描述了加热器，加热器具有有顶部和底部的主体，加热器包括热解氮化硼(PBN)、第一加热器电极、和第二加热器电极。加热器电极可以封闭在电绝缘支座内并连接到单独的汇流条以提供电力。还描述了包括一个或多个加热器的加热器组件和包括该加热器组件的处理腔室。
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公开(公告)号：CN102725826A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201180007442.3
申请日：2011-01-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: 本发明实施例系关于利用圆盘刷清洁基板的设备与方法。一实施例提供基板清洁器，其包括配置于处理空间中的基板夹盘以及配置于处理空间中的刷具组件，其中刷具组件包括与基板夹盘相对且可移动地配置的圆盘刷，且圆盘刷的处理表面接触基板夹盘上基板的表面。
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公开(公告)号：CN111742401B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN201980014053.X
申请日：2019-02-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , C23C16/455
Abstract: 描述了加热器，加热器具有有顶部和底部的主体，加热器包括热解氮化硼(PBN)、第一加热器电极、和第二加热器电极。加热器电极可以封闭在电绝缘支座内并连接到单独的汇流条以提供电力。还描述了包括一个或多个加热器的加热器组件和包括该加热器组件的处理腔室。
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公开(公告)号：CN103252715B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201310170453.4
申请日：2011-08-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/32
CPC classification number: B24B41/06 , B24B37/32 , B24B41/067
Abstract: 本发明公开了一种内扣环和外扣环。一种用于化学机械抛光机的载具头包括底座、基板安装表面、环形内环和环形外环。内环具有配置为圆周地环绕定位于基板安装表面上的基板的边缘的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。内环相对于基板安装表面而可垂直移动。外环具有圆周地环绕内环的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。外环相对于且独立于基板安装表面和内环而可垂直移动。内环的下表面具有第一宽度，且外环的下表面具有大于第一宽度的第二宽度。
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公开(公告)号：CN103252715A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310170453.4
申请日：2011-08-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/32
CPC classification number: B24B41/06 , B24B37/32 , B24B41/067
Abstract: 本发明公开了一种内扣环和外扣环。一种用于化学机械抛光机的载具头包括底座、基板安装表面、环形内环和环形外环。内环具有配置为圆周地环绕定位于基板安装表面上的基板的边缘的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。内环相对于基板安装表面而可垂直移动。外环具有圆周地环绕内环的内表面、外表面和接触抛光垫的下表面。外环相对于且独立于基板安装表面和内环而可垂直移动。内环的下表面具有第一宽度，且外环的下表面具有大于第一宽度的第二宽度。
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