公开(公告)号：CN106165081A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201480077375.6

申请日：2014-04-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： T·伯格 ,  R·林德伯格

IPC: H01L21/677 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/568 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67715

Abstract: 描述一种用于处理基本上竖直地定向的基板的基板处理系统。所述基板处理系统包括：第一真空腔室，所述第一真空腔室具有第一双轨传输系统，所述第一双轨传输系统具有第一传输轨道和第二传输轨道；至少一个横向位移机构，所述至少一个横向位移机构被配置成用于在所述第一真空腔室中将所述基板从所述第一传输轨道横向地移位至所述第二传输轨道或反之亦然；以及真空旋转模块，所述真空旋转模块具有第二真空腔室，其中所述真空旋转模块包括竖直的旋转轴，以使所述基板在所述第二真空腔室中围绕所述竖直的旋转轴旋转，其中所述真空旋转模块具有第二双轨传输系统，所述第二双轨传输系统具有第一旋转轨道和第二旋转轨道，其中所述第一旋转轨道可旋转以与所述第一传输轨道形成线性传输路径，并且所述第二旋转轨道可旋转以与所述第二传输轨道形成线性传输路径，并且其中所述竖直的旋转轴在所述第一旋转轨道与所述第二旋转轨道之间。

公开(公告)号：CN206927946U

公开(公告)日：2018-01-26

申请号：CN201490001478.X

申请日：2014-05-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： R·林德伯格 ,  W·克莱恩 ,  S·劳 ,  T·伯格

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  G03F7/20 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  C03B35/20

CPC classification number: C23C14/50 ,  C23C14/562 ,  C23C16/458 ,  C23C16/545 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32752 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/68721

Abstract: 本实用新型提供了用于在真空处理腔室中支撑基板的载体和用于在基板上沉积层的设备。所述载体(100)包括：载体主体(110)，所述载体主体被配置成用于沿所述线性传送路径(133)来进行传送；以及至少一个基板支撑布置(120)，所述至少一个基板支撑布置(120)提供在所述载体主体(110)处并配置成用于支撑所述基板(101)，其中所述基板支撑布置(120)被配置成限定所述基板(101)的至少一个弯曲轴(130)，其中所述至少一个弯曲轴(130)具有基本上竖直的取向。