公开(公告)号：CN101588912A

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200780043922.9

申请日：2007-11-28

Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： P·芒泽特 ,  M·谢勒 ,  U·舒尔茨 ,  N·凯瑟

IPC: B29C59/00 ,  B29C59/14 ,  C23C14/58

CPC classification number: B29C59/14 ,  C08J7/12 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/5873 ,  G02B1/12

Abstract: 在本发明的用于借助等离子体蚀刻工艺在塑料基材(1)的表面上产生纳米结构(6)方法中，在塑料基材(1)上施加薄层(2)，并随后实施等离子体蚀刻工艺。通过用该方法产生的纳米结构(6)特别可降低该塑料基材(1)表面的反射。

公开(公告)号：CN101588912B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200780043922.9

申请日：2007-11-28

Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： P·芒泽特 ,  M·谢勒 ,  U·舒尔茨 ,  N·凯瑟

IPC: B29C59/00 ,  B29C59/14 ,  C23C14/58

CPC classification number: B29C59/14 ,  C08J7/12 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/5873 ,  G02B1/12

Abstract: 在本发明的用于借助等离子体蚀刻工艺在塑料基材(1)的表面上产生纳米结构(6)方法中，在塑料基材(1)上施加薄层(2)，并随后实施等离子体蚀刻工艺。通过用该方法产生的纳米结构(6)特别可降低该塑料基材(1)表面的反射。