公开(公告)号：CN101588912B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200780043922.9

申请日：2007-11-28

Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： P·芒泽特 ,  M·谢勒 ,  U·舒尔茨 ,  N·凯瑟

IPC: B29C59/00 ,  B29C59/14 ,  C23C14/58

CPC classification number: B29C59/14 ,  C08J7/12 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/5873 ,  G02B1/12

Abstract: 在本发明的用于借助等离子体蚀刻工艺在塑料基材(1)的表面上产生纳米结构(6)方法中，在塑料基材(1)上施加薄层(2)，并随后实施等离子体蚀刻工艺。通过用该方法产生的纳米结构(6)特别可降低该塑料基材(1)表面的反射。

公开(公告)号：CN101588912A

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200780043922.9

申请日：2007-11-28

Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： P·芒泽特 ,  M·谢勒 ,  U·舒尔茨 ,  N·凯瑟

IPC: B29C59/00 ,  B29C59/14 ,  C23C14/58

CPC classification number: B29C59/14 ,  C08J7/12 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/5873 ,  G02B1/12

Abstract: 在本发明的用于借助等离子体蚀刻工艺在塑料基材(1)的表面上产生纳米结构(6)方法中，在塑料基材(1)上施加薄层(2)，并随后实施等离子体蚀刻工艺。通过用该方法产生的纳米结构(6)特别可降低该塑料基材(1)表面的反射。

公开(公告)号：CN101088031A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200580044832.2

申请日：2005-12-23

Applicant: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会

Inventor： N·比诺特 ,  T·费格尔 ,  N·凯瑟 ,  S·尤林

IPC: G02B5/08 ,  G02B1/10 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/0833 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及一种用于反射EUV射线的多层的反射镜(1)，包括多个交替的钼层(4)及硅层(3)，在这些钼层(4)与硅层(3)之间的多个边界面上分别设置一个阻挡层(5)，该阻挡层包括一种硅氮化合物或硅硼化合物。通过由硅氮化合物或硅硼化合物构成的阻挡层(5)实现了高的热稳定性，尤其是实现了在温度大于300℃时的长时间的高稳定性，同时，该多层的反射镜的反射率高。这种多层的反射镜(1)可尤其是用作一个EUV辐射源的可加热的集光镜。