X射线散射量测装置及X射线散射量测方法

    公开(公告)号:CN118329942A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202310870906.8

    申请日:2023-07-14

    Inventor: 喻虹 谈志杰

    Abstract: 本发明涉及一种X射线散射量测装置及X射线散射量测方法,通过对X射线源、第一X射线聚焦镜、第二X射线聚焦镜、至少一个光阑的位置;第一X射线聚焦镜、第二X射线聚焦镜的姿态;以及至少一个光阑的尺寸进行调节,从而能够使得从X射线源发出的X射线入射到待测样品上而形成较小的光斑截面尺寸,因而能够获得更小的量测区域尺寸。

    基于多光束入射的小角X射线散射量测装置及方法

    公开(公告)号:CN118328914A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202310914756.6

    申请日:2023-07-24

    Inventor: 喻虹 谈志杰

    Abstract: 本发明提供一种基于多光束入射的小角X射线散射量测装置及方法,该装置包括:X射线源(1);聚焦镜(2);光阑组(3),包括具有多个孔径光阑(311)的光束选择器(310),聚焦后的X射线束通过多个孔径光阑而选择性地得到多束入射光束,多个孔径光阑分别用于调整多束入射光束的发散角;样品台(4),用于载放样品,多束入射光束相对于样品的法线方向以不同的入射角照射到样品表面的规定位置;探测器(5),接收多束入射光束被样品散射后并从样品射出的多束检测光束,以获取多束检测光束的散射光强空间分布;以及数据处理系统(6),基于散射光强空间分布及多束入射光束各自的入射角,确定样品的三维结构信息。

    光学测量设备
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220084691U

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202320858065.4

    申请日:2023-04-17

    Inventor: 喻虹 谈志杰

    Abstract: 本公开涉及一种光学测量设备。该光学测量设备包括:光源,所述光源被配置为产生至少两束测量光束,其中,所述至少两束测量光束中的每束测量光束被配置为分别沿不同的出射光路行进以用于照射到相应的样品上;以及至少两个光学探测器,所述至少两个光学探测器中的每个光学探测器分别设于相应的一条出射光路上,且每个光学探测器被配置为接收并检测沿相应的出射光路行进的测量光束与相应的样品相互作用所产生的出射光的至少一部分。

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