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公开(公告)号：CN108591559A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201810283916.0
申请日：2013-09-20
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 本发明涉及压力调节器和流体供给封装包。一种流体供给封装包，包括：一个压力调节流体贮存和分配容器，一个阀头，适于分配来自该容器的流体，以及一个抗压力尖峰组件，适于对抗在流体分配的初期来自所述阀头的流体的流动中的压力尖峰。
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公开(公告)号：CN118318126A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202280079053.X
申请日：2022-11-29
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 一种高压流体存储系统，其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测一体式装置(PSUD)。所述PSUD可经制造为单个一体式构造，其中外壳主体及内部压力调节机构两者是由单个单元、材料或两者制成。所述PSUD不具有任何焊接组件，也非由多个单独组件组装而成，或两者。
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公开(公告)号：CN107771262A
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201680036108.3
申请日：2016-05-11
Applicant: 恩特格里斯公司
Inventor： D·埃尔策 , 唐瀛 , B·L·钱伯斯 , J·D·斯威尼 , S·M·威尔逊 , S·乌兰伊齐 , S·E·毕夏普 , J·V·麦克马纳斯 , W·K·奥兰德 , E·E·琼斯 , O·比尔 , J·R·德普雷斯 , C·斯坎内尔
IPC: F17C13/04
CPC classification number: F17C13/04 , F17C2205/0308 , F17C2205/0335 , F17C2205/0338 , F17C2205/0391
Abstract: 本发明揭示用于流体供应封装中的流体施配组合件，其中这些流体施配组合件耦合到流体供应器皿以用于施配例如半导体制造流体等流体。在具体实施方案中，所述流体施配组合件经配置以防止将过多力施加到所述流体施配组合件中的阀元件，及/或避免可能导致有毒气体或者在其他方面危险的气体或珍贵气体泄漏的器皿意外或偶然打开状态。本发明还描述用于辅助将例如上述类型的流体供应封装的耦合元件等耦合元件耦合的对准装置，使得因不对准而对这些耦合件的损坏得以避免。
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公开(公告)号：CN105556641A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480052121.9
申请日：2014-07-21
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01J37/32449 , H01J37/3171 , H01J2237/002 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , H01J2237/24564 , H01J2237/3365
Abstract: 描述了用于流体的远程传送的流体存储和分配系统及方法，以用于将流体从处于较低电压的源容器提供至处于较高电压的一个或多个流体利用工具，使得流体跨越相关联的电压隙而无电弧、放电、过早离子化或其他异常行为，并且使得当由远程源容器供应多个流体利用工具时，在多个容器中的其他容器的独立操作期间，在合适的压力水平下将流体有效地供应至多个工具中的每个。
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公开(公告)号：CN118382774A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202280079396.6
申请日：2022-11-29
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 本公开涉及一种高压流体存储系统，其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测一体式装置(PSUD)。所述PSUD可经制造为单个一体式构造，其中外壳主体及内部压力调节机构两者是由单个单元、材料或两者制成。所述PSUD不具有任何焊接组件，也不是由多个单独组件组装而成，或两者。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113586937A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110485000.5
申请日：2021-04-30
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 可使用经选择以具有约为从包含调节器组合件的流体存储及输送容器分配的选定流体的分子量的分子量的测试流体来测试调节器组合件。所述测试流体可为单种气体或混合物。所述测试流体可具有在从所述流体存储及输送容器分配的所述选定流体的所述分子量的80％到110％之间的分子量。当依此方式测试的调节器组合件在所述测试气体流启动时展示少于两个尖峰时，其可通过评估。可将这些调节器组合件安装到流体存储及输送容器中，尤其用于加压流体的存储及输送。
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公开(公告)号：CN106237934B
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201610643193.1
申请日：2011-08-28
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 描述了一种设备，包括反应区，用于反应物气体与反应性固体在有效形成中间产物的条件下接触，和开口，用于使气体试剂未反应部分和中间产物离开反应区。本设备可有利地用于形成作为中间产物与反应物气体的反应产物的最终产物。反应物气体与反应性固体的反应可在第一反应区进行，而反应物气体与中间产物的反应在第二反应区进行。在具体实施中，反应物气体与中间产物的反应是可逆的，且反应物气体和中间产物以受控速率或以受控方式流入第二反应区，从而抑制形成反应性固体的逆反应。
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公开(公告)号：CN105645423A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610004212.6
申请日：2011-08-16
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: C01B35/06
CPC classification number: C01B35/061 , C01P2006/88 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , H01J2237/31701 , Y02P20/134
Abstract: 本文涉及同位素富集的含硼化合物，含有两个或以上的硼原子和至少一个氟原子，其中至少一个硼原子含有所需的硼同位素，所述同位素的浓度或比例高于其天然丰度的浓度或比例。所述化合物可以具有化学式B2F4。本文描述了合成这些化合物的方法和使用这些化合物的离子注入方法，以及描述了贮存和分配容器，其中有利地含有所述同位素富集的含硼化合物用于随后的分配应用。
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公开(公告)号：CN104813095A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201380060894.7
申请日：2013-09-20
Applicant: 恩特格里斯公司
CPC classification number: F17C13/12 , F17C13/04 , F17C2201/0104 , F17C2205/0326 , F17C2205/0329 , F17C2205/0335 , F17C2205/0338 , F17C2205/0344 , F17C2205/035 , F17C2205/0382 , F17C2205/0391 , F17C2221/012 , F17C2221/013 , F17C2221/015 , F17C2221/016 , F17C2227/045 , F17C2250/0626 , F17C2270/0518 , Y02E60/321 , Y10T137/7795
Abstract: 一种流体供给封装包，包括：一个压力调节流体贮存和分配容器，一个阀头，适于分配来自该容器的流体，以及一个抗压力尖峰组件，适于对抗在流体分配的初期来自所述阀头的流体的流动中的压力尖峰。
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公开(公告)号：CN119816923A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202380063290.1
申请日：2023-06-29
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01L21/265 , H01L21/67 , H01L21/673 , C23C16/455 , H01J37/32
Abstract: 本公开涉及一种离子注入工具源和气体输送系统。所述系统可包括：包含一或多个气体供应容器的气源、连接到所述气源的离子注入机电弧室以及容纳于所述离子注入机电弧室内的镓靶。所述一或多个气体供应容器可供应氢和氟化物的气体混合物。所述氢在所述气体混合物中可占5％至60％。
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