公开(公告)号：CN107109633B

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：CN201680004589.X

申请日：2016-05-16

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 守井泰士 ,  大月富男

IPC: C23C14/34 ,  C22C9/00 ,  C22F1/08 ,  H01L21/285 ,  C22C9/01 ,  C22C9/05 ,  C22F1/00

Abstract: 一种铜合金溅射靶，其特征在于，通过带电粒子活化分析而测定的、氧含量为0.6重量ppm以下、或者、氧含量为2重量ppm以下且碳含量为0.6重量ppm以下。另外，一种铜合金溅射靶的制造方法，其特征在于，对铜原料在真空或惰性气体气氛中进行熔炼，然后向熔炼中的气氛中加入还原气体，接着，向熔融金属中添加合金元素而进行合金化，并将所得到的锭加工为靶形状。本发明的课题是提供一种溅射时粉粒的产生少的铜合金溅射靶及其制造方法。

公开(公告)号：CN108699680A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780015432.1

申请日：2017-03-07

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 大月富男 ,  长田健一 ,  守井泰士

IPC: C23C14/34 ,  C22C9/00 ,  C22C9/01 ,  C22C9/05 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  B22D1/00 ,  B22D21/00

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22D1/00 ,  B22D21/00 ,  C22C9/00 ,  C22C9/01 ,  C22C9/05 ,  C23C14/34 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285

Abstract: 一种溅射靶，其包含铜或铜合金，其中，所述溅射靶含有氩或氢各自为1重量ppm以上且10重量ppm以下的氩或氢中的任一者，或者含有氩和氢各自为1重量ppm以上且10重量ppm以下的氩和氢两者。本发明的课题在于提供一种即使在低压力、低气体流量等难以继续进行溅射放电的条件下也能够稳定地持续放电的铜或铜合金溅射靶。

公开(公告)号：CN107109633A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201680004589.X

申请日：2016-05-16

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 守井泰士 ,  大月富男

IPC: C23C14/34 ,  C22C9/00 ,  C22F1/08 ,  H01L21/285 ,  C22C9/01 ,  C22C9/05 ,  C22F1/00

Abstract: 一种铜合金溅射靶，其特征在于，通过带电粒子活化分析而测定的、氧含量为0.6重量ppm以下、或者、氧含量为2重量ppm以下且碳含量为0.6重量ppm以下。另外，一种铜合金溅射靶的制造方法，其特征在于，对铜原料在真空或惰性气体气氛中进行熔炼，然后向熔炼中的气氛中加入还原气体，接着，向熔融金属中添加合金元素而进行合金化，并将所得到的锭加工为靶形状。本发明的课题是提供一种溅射时粉粒的产生少的铜合金溅射靶及其制造方法。