公开(公告)号：CN108779554B

公开(公告)日：2020-12-01

申请号：CN201780015348.X

申请日：2017-03-07

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 村田周平

IPC: C23C14/34

Abstract: 一种溅射靶，其溅射面具有平坦部和锥形部，其特征在于，上述锥形部具有以KAM值计平均0.5°以上的晶体应变。能够降低点燃(等离子体点火)的点火失败率，能够稳定地开始溅射过程。由此，能够缩短装置的停机时间，因此，能够有助于提高生产能力、改善性价比。

公开(公告)号：CN107614742B

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201680028414.2

申请日：2016-05-18

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 村田周平 ,  山越康广 ,  永津光太郎

IPC: C23C14/34 ,  H05H1/46

Abstract: 一种溅射靶，其具备平坦部和锥形部，其特征在于，在靶的溅射面上配置有点燃用的加工槽。能够降低点燃(等离子体点火)的点火失败率，并且能够稳定地开始溅射过程。由此，能够缩短装置的停机时间，因此能够有助于提高生产能力、改善性价比。

公开(公告)号：CN107614742A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201680028414.2

申请日：2016-05-18

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 村田周平 ,  山越康广 ,  永津光太郎

IPC: C23C14/34 ,  H05H1/46

Abstract: 一种溅射靶，其具备平坦部和锥形部，其特征在于，在靶的溅射面上配置有点燃用的加工槽。能够降低点燃(等离子体点火)的点火失败率，并且能够稳定地开始溅射过程。由此，能够缩短装置的停机时间，因此能够有助于提高生产能力、改善性价比。

公开(公告)号：CN108779554A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780015348.X

申请日：2017-03-07

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 村田周平

IPC: C23C14/34

Abstract: 一种溅射靶，其溅射面具有平坦部和锥形部，其特征在于，上述锥形部具有以KAM值计平均0.5°以上的晶体应变。能够降低点燃(等离子体点火)的点火失败率，能够稳定地开始溅射过程。由此，能够缩短装置的停机时间，因此，能够有助于提高生产能力、改善性价比。