公开(公告)号：CN106029943A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201580009968.3

申请日：2015-06-16

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 荒川笃俊 ,  森下优斗

IPC: C23C14/34 ,  C22C5/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  G11B5/851

CPC classification number: C22C5/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  C23C14/34 ,  G11B5/851

Abstract: 一种溅射靶，其为含有以Co或Fe作为主要成分的合金以及包含Mn和B的氧化物的溅射靶，其特征在于，上述溅射靶的组成满足9原子％≤Mn+B+O≤56原子％、B≤Mn(原子％)、Mn+B≤O(原子％)的条件，能够抑制成为溅射时的粉粒产生的原因的由非磁性材料引起的异常放电。

公开(公告)号：CN106029943B

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201580009968.3

申请日：2015-06-16

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 荒川笃俊 ,  森下优斗

IPC: C23C14/34 ,  C22C5/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  G11B5/851

CPC classification number: C22C5/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  C23C14/34 ,  G11B5/851

Abstract: 一种溅射靶，其为含有以Co或Fe作为主要成分的合金以及包含Mn和B的氧化物的溅射靶，其特征在于，上述溅射靶的组成满足9原子％≤Mn+B+O≤56原子％、B≤Mn(原子％)、Mn+B≤O(原子％)的条件，能够抑制成为溅射时的粉粒产生的原因的由非磁性材料引起的异常放电。