公开(公告)号：CN108026631A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201680006176.5

申请日：2016-02-15

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 森下雄斗

IPC: C23C14/34 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  G11B5/851 ,  B22F1/00

Abstract: 本发明涉及一种溅射靶，其包含含有Co的合金以及硼和/或硼的氧化物，其特征在于，溶解到水中的氧化硼(B2O3)中的金属硼为7000μg/m2以下。本发明的课题在于提供一种能够抑制溅射时由B2O3的熔化引起的粉粒产生的适合于形成磁记录膜的溅射靶。

公开(公告)号：CN108026631B

公开(公告)日：2020-02-28

申请号：CN201680006176.5

申请日：2016-02-15

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 森下雄斗

IPC: C23C14/34 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  G11B5/851 ,  B22F1/00

Abstract: 本发明涉及一种溅射靶，其包含含有Co的合金以及硼和/或硼的氧化物，其特征在于，溶解到水中的氧化硼(B2O3)中的金属硼为7000μg/m2以下。本发明的课题在于提供一种能够抑制溅射时由B2O3的熔化引起的粉粒产生的适合于形成磁记录膜的溅射靶。