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公开(公告)号:CN111886658B
公开(公告)日:2022-07-19
申请号:CN201980021007.2
申请日:2019-03-19
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 下述导电性碳材料分散液适于在锂离子二次电池等储能器件的电极集电体上所形成的底涂层的制作,该导电性碳材料分散液包含导电性碳材料、阳离子性分散剂和溶剂,不含阴离子性化合物,阳离子性分散剂例如为双氰胺/二亚乙基三胺缩合物、聚乙撑亚胺等不具有阴离子性官能团的阳离子性聚合物。
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公开(公告)号:CN111937196A
公开(公告)日:2020-11-13
申请号:CN201980020999.7
申请日:2019-03-19
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 提供储能器件电极用底涂箔,其包括:集电体、在该集电体的至少一面形成的、包含导电性碳材料和分散剂的底涂层,所述集电体不含底涂层中所含的元素,采用X射线光电子能谱(XPS)测定所述底涂箔的底涂层形成面得到的构成所述集电体的元素的比率为2原子%以下。
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公开(公告)号:CN109952631A
公开(公告)日:2019-06-28
申请号:CN201780056169.0
申请日:2017-09-15
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/306 , C08G59/62 , C08G65/28 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题是提供针对过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。解决手段是一种针对过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物,其包含:下述式(1a)所示的化合物、式(1b)所示的化合物、具有下述式(2)所示的取代基的分子量为300以上且小于800的化合物、或具有下述式(2)所示的取代基的重均分子量为300以上且小于800的化合物;以及溶剂,相对于除去该溶剂后的固体成分,含有上述式(1a)或式(1b)所示的化合物0.1质量%~60质量%,或含有具有上述式(2)所示的取代基的化合物10质量%~100质量%。(式中,R1表示碳原子数1~4的亚烷基或亚烯基、或直接结合,k表示0或1,m表示1~3的整数,n表示2~4的整数。)
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公开(公告)号:CN109313389A
公开(公告)日:2019-02-05
申请号:CN201780021847.X
申请日:2017-03-29
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08K5/3445 , C08L63/00 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 提供抗蚀剂下层膜形成组合物以及使用该组合物的抗蚀剂下层膜和半导体装置的制造方法,在半导体装置制造的光刻工艺中,利用具有甘脲骨架的化合物添加剂增强防止形成在基板上的抗蚀剂图案的图案倒塌的功能。使用下面的式(1-1)的抗蚀剂下层膜形成组合物用添加剂:(式(1-1)中,R1~R4各自是由选自由有机基团组成的组中的至少一个基团取代氢原子后的C2~10烷基或C2~10烯基,所述有机基团包含羟基、硫醇基、羧基、C1~5烷氧基乙基、C1~5烷基磺酰基和酯键,能够全部相同也能够不同,R5和R6各自表示选自氢原子、C1~10烷基和苯基中的基团)。
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公开(公告)号:CN109073978A
公开(公告)日:2018-12-21
申请号:CN201780026762.0
申请日:2017-04-21
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/306
Abstract: 本发明的课题是提供对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。作为解决手段是一种对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物,其包含:1分子中具有2个以上选自缩水甘油基、末端环氧基、环氧环戊基、环氧环己基、氧杂环丁烷基、乙烯基醚基、异氰酸酯基和封闭异氰酸酯基中的至少1种基团的交联剂,侧链或末端具有下述式(1)所示的基团且重均分子量为800以上的化合物,以及有机溶剂。(式中,X1表示与上述交联剂反应的取代基,R0表示直接结合或碳原子数1或2的亚烷基,X2表示碳原子数1或2的烷基、碳原子数1或2的烷氧基、或氟基,a表示0~2的整数,b表示1~3的整数,c表示0~4的整数,b与c满足1≤(b+c)≤5的关系式。)。
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公开(公告)号:CN109073978B
公开(公告)日:2022-05-17
申请号:CN201780026762.0
申请日:2017-04-21
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/306
Abstract: 本发明的课题是提供对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。作为解决手段是一种对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物,其包含:1分子中具有2个以上选自缩水甘油基、末端环氧基、环氧环戊基、环氧环己基、氧杂环丁烷基、乙烯基醚基、异氰酸酯基和封闭异氰酸酯基中的至少1种基团的交联剂,侧链或末端具有下述式(1)所示的基团且重均分子量为800以上的化合物,以及有机溶剂。(式中,X1表示与上述交联剂反应的取代基,R0表示直接结合或碳原子数1或2的亚烷基,X2表示碳原子数1或2的烷基、碳原子数1或2的烷氧基、或氟基,a表示0~2的整数,b表示1~3的整数,c表示0~4的整数,b与c满足1≤(b+c)≤5的关系式。)。
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公开(公告)号:CN111902972A
公开(公告)日:2020-11-06
申请号:CN201980021558.9
申请日:2019-03-19
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01M4/04 , H01B1/24 , H01G11/28 , H01M4/02 , H01M4/13 , H01M4/66 , C09D5/00 , C09D5/24 , C09D7/20 , C09D7/61 , C09D7/65 , C09D201/00
Abstract: 储能器件的底涂层形成用组合物可给予发挥低电阻化效果和电阻上升抑制效果的底涂层,所述储能器件的底涂层形成用组合物包含碳纳米管、碳纳米管分散剂和溶剂,碳纳米管中的金属杂质的总含量为不到5质量%,并且钴和锰的含量均为不到0.01质量%。
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公开(公告)号:CN111886718A
公开(公告)日:2020-11-03
申请号:CN201980021006.8
申请日:2019-03-19
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01M4/04 , C09D5/00 , C09D5/24 , C09D7/20 , C09D7/61 , C09D7/65 , C09D201/00 , H01B1/24 , H01G11/28 , H01M4/02 , H01M4/13 , H01M4/66
Abstract: 包含碳纳米管、碳纳米管分散剂和溶剂、碳纳米管的G/D带比为0.680~2.900的储能器件的底涂层形成用组合物可产生发挥低电阻化效果和电阻上升抑制效果的底涂层。
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