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公开(公告)号：CN1383182A
公开(公告)日：2002-12-04
申请号：CN02118469.0
申请日：2002-04-26
Applicant: 日新电机株式会社
Inventor： 滨本成显
IPC: H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/317 , H01J2237/0041 , H01L21/2236
Abstract: 当等离子体在等离子体发生器中触发时,使离子束在等离子体发生器中运行,并且在这种状态下,将相对于地的正电压从DC电源施加到等离子体发生室上。当离子束与从等离子体发生室流出而进入离子束路径的等离子体发生气体相碰撞时产生次级电子。次级电子被正电压引入等离子体发生室内,并且在等离子体发生室内,利用被引入等离子体发生室内的次级电子和射频引发等离子体的触发。
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公开(公告)号：CN1424867A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：CN02154880.3
申请日：2002-12-04
Applicant: 日新电机株式会社
Inventor： 滨本成显
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J37/32082 , C23C14/48 , H01J37/026 , H01J2237/31701
Abstract: 一种离子束辐照装置配备一等离子体发生器，后者产生一等离子体并将其供给一基底上游一侧附近的一个区域，借此扼制由于离子束辐照所造成的基底表面的充电。用于把用于产生等离子体的等离子体供给一等离子体发生器的无线电频率电源是一用于生成通过对一初始无线电频率信号从事调幅而形成无线电频率电功率的无线电频率电源。
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公开(公告)号：CN1304165A
公开(公告)日：2001-07-18
申请号：CN00137248.3
申请日：2000-12-28
Applicant: 日新电机株式会社
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/1472
Abstract: 离子注入设备包括一个注入控制装置26a,它具有由扫掠磁体12扫掠离子束的功能和由扫描机构扫描目标的功能。注入控制装置26a具有以下功能:根据离子束的种类和能量中的至少一个参数,改变要由所述扫掠磁体扫掠的离子束的扫掠频率;根据扫掠频率的改变,改变要由所述扫描机构扫描的目标的最低扫描次数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1190821C
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN02118469.0
申请日：2002-04-26
Applicant: 日新电机株式会社
Inventor： 滨本成显
IPC: H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/317 , H01J2237/0041 , H01L21/2236
Abstract: 当等离子体在等离子体发生器中触发时，使离子束在等离子体发生器中运行，并且在这种状态下，将相对于地的正电压从DC电源施加到等离子体发生室上。当离子束与从等离子体发生室流出而进入离子束路径的等离子体发生气体相碰撞时产生次级电子。次级电子被正电压引入等离子体发生室内，并且在等离子体发生室内，利用被引入等离子体发生室内的次级电子和射频引发等离子体的触发。
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公开(公告)号：CN1222197C
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN02154880.3
申请日：2002-12-04
Applicant: 日新电机株式会社
Inventor： 滨本成显
IPC: H05H1/46 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/32082 , C23C14/48 , H01J37/026 , H01J2237/31701
Abstract: 一种离子束辐照装置配备一等离子体发生器，后者产生一等离子体并将其供给一基底上游一侧附近的一个区域，借此扼制由于离子束辐照所造成的基底表面的充电。把用于产生等离子体的无线电频率电功率供给一等离子体发生器的无线电频率电源是一用于生成通过对一初始无线电频率信号进行调幅而形成的无线电频率电功率的无线电频率电源。
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公开(公告)号：CN1356860A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN01142968.2
申请日：2001-11-30
Applicant: 日新电机株式会社
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J2237/0041
Abstract: 离子束辐射装置被装备有等离子体产生装置30,该等离子束产生装置通过射频放电产生等离子体12并将所产生的等离子体供给到基片4附近。该等离子体产生装置30包括沿着轴33延伸的等离子体产生室32,该轴33沿着离子束被移动的扫描方向X延伸;被装备在其上一侧的等离子发射孔34;以及被装备在等离子体产生室32外面的磁体36,用于产生具有沿着轴33方向的磁场。由磁体36产生的磁场包含一个具有沿着轴33方向且将包含在等离子体12中的离子弯转向基片的磁场,等离子体由等离子发射孔34发射出。
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公开(公告)号：CN1157756C
公开(公告)日：2004-07-14
申请号：CN01142968.2
申请日：2001-11-30
Applicant: 日新电机株式会社
IPC: H01J37/317 , H05H1/00
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J2237/0041
Abstract: 离子束辐射装置被装备有等离子体产生装置30，该等离子束产生装置通过射频放电产生等离子体12并将所产生的等离子体供给到基片4附近。该等离子体产生装置30包括沿着轴33延伸的等离子体产生室32，该轴33沿着离子束被移动的扫描方向X延伸；被装备在其上一侧的等离子发射孔34；以及被装备在等离子体产生室32外面的磁体36，用于产生具有沿着轴33方向的磁场。由磁体36产生的磁场包含一个具有沿着轴33方向且将包含在等离子体12中的离子弯转向基片的磁场，等离子体由等离子发射孔34发射出。
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公开(公告)号：CN1134819C
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN00137248.3
申请日：2000-12-28
Applicant: 日新电机株式会社
IPC: H01J37/36 , H01J37/317 , C23C14/48 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/1472
Abstract: 离子注入设备包括一个注入控制装置(26a)，它具有由扫掠磁体(12)扫掠离子束的功能和由扫描机构扫描目标的功能。注入控制装置(26a)具有以下功能：根据离子束的种类和能量中的至少一个参数，改变要由所述扫掠磁体扫掠的离子束的扫掠频率；根据扫掠频率的改变，改变要由所述扫描机构扫描的目标的最低扫描次数。
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