-
-
公开(公告)号：JP2018168397A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2017064520
申请日：2017-03-29
Applicant: アイシン精機株式会社 , 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Abstract: 【課題】高い耐久性を有する非晶質カーボン被膜の製造方法、当該非晶質カーボン被膜及び当該非晶質カーボン被膜を有する切削工具を提供する。 【解決手段】基材の表面に炭素を蒸着させることにより非晶質カーボン被膜をベース被膜として形成する基礎成膜工程の後に、基材の表面に形成された非晶質カーボン被膜の表面を研磨する被膜研磨工程と、被膜研磨工程において研磨された非晶質カーボン被膜の表面に炭素を蒸着させることにより非晶質カーボン被膜を追加被膜として形成する追加成膜工程と、の組み合わせを少なくとも1回実行することにより、1層のベース被膜と少なくとも1層の追加被膜とからなる複数層の非晶質カーボン被膜を基材の表面に形成する。外表面を構成する追加被膜の厚みは小さいことが望ましい。基礎成膜工程の前に基材の表面を研磨する基材研磨工程を実行してもよい。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JP2018123431A
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：JP2018032182
申请日：2018-02-26
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社 , 日本ピストンリング株式会社
Abstract: 【課題】低摩擦性と耐摩耗性の両立を十分に改善させるだけでなく、耐チッピング性(耐欠損性)や耐剥離性の改善も図られた被覆膜とその製造方法およびPVD装置を提供する。 【解決手段】基材の表面に被覆される被覆膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき基材に対して垂直な方向に柱状に連なっている硬質炭素層が形成されており、硬質炭素層がPVD法を用いて形成されており、硬質炭素層をラマン分光法で測定したとき、ラマン分光スペクトルのDバンドとGバンドのピークの面積強度比であるID/IG比が1〜6である被覆膜。アーク式PVD法を用いて、基材温度が250〜400℃に維持されるように、バイアス電圧、アーク電流、ヒーター温度および/または炉内圧力を制御すると共に、基材を自転および/または公転させながら基材の表面に硬質炭素膜を被覆する被覆膜の製造方法と装置。 【選択図】図1
-
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2021021098A
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2019136859
申请日：2019-07-25
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Abstract: 【課題】非晶質硬質炭素膜を厚膜に成膜した場合でも、膜表面の平滑性が維持されており、また、耐摩耗性にも優れている非晶質硬質炭素膜の成膜技術を提供する。 【解決手段】表面粗さRa(μm)を膜厚d(μm)で除した面粗さ指数Ra/dが、0.035以下であり、膜中のグラファイトのC軸が、基材表面に対して平行に配向している非晶質硬質炭素膜。真空中でカーボンを主成分とする円柱状の陰極の外周面にアークスポットを形成させ、アーク放電を生じさせることにより、アークスポットからカーボンを昇華させて、基材の表面に非晶質硬質炭素膜を成膜する非晶質硬質炭素膜の成膜方法であって、基材に0〜−50Vのバイアス電圧を印加すると共に、アーク電流を10〜200A、炉内圧力を5.0Pa以下に制御して、基材の温度を250〜350℃に制御しながら、基材の表面に非晶質硬質炭素膜を成膜する非晶質硬質炭素膜の成膜方法。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JP6343767B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2016548483
申请日：2014-09-17
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社 , 日本ピストンリング株式会社
CPC classification number: C10M103/02 , C01B32/05 , C01P2002/82 , C01P2004/04 , C10M2201/0413 , C10N2230/20 , C23C14/06 , C23C14/0605 , C23C14/325
-
公开(公告)号：JP2017171988A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2016059233
申请日：2016-03-23
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Abstract: 【課題】PVD法でありながら耐久性に優れた厚膜の硬質炭素膜を成膜することができると共に、成膜された硬質炭素膜の耐チッピング性と耐摩耗性とを両立させると共に、低摩擦性と耐剥離性を改善させることができる技術を提供する。 【解決手段】基材の表面に被覆される被覆膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき、相対的に白で示される白色の硬質炭素層と、黒で示される黒色の硬質炭素層とが厚み方向に交互に積層されて1μmを超え、50μm以下の総膜厚を有しており、白色の硬質単素層は、厚み方向に柱状に成長した領域を有している被覆膜。PVD法を用いて基材の表面に被覆膜を成膜する被覆膜の製造方法であって、基材が50℃を超え250℃未満の低温域と250℃以上400℃以下の高温域との間で昇温と降温を交互に繰り返すように基材への成膜条件を制御すると共に、基材を自転および/または公転させる被覆膜の製造方法。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JP2017101291A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2015235723
申请日：2015-12-02
Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社 , 株式会社アライドマテリアル
Abstract: 【課題】鋼材料の摩擦攪拌接合に好適な被覆耐熱合金工具を提供する。 【解決手段】摩擦攪拌接合用工具は、タングステン基耐熱合金と、タングステン基耐熱合金の上に形成された被覆層とを備え、タングステン基耐熱合金は、Wを主成分とし、Ti、ZrおよびHfからなる群より選ばれた少なくとも1つの元素の炭窒化物を有し、周期律表5A族元素の少なくとも1つの元素の炭化物を有し、室温におけるビッカース硬度が550Hv以上であり、1200℃における3点曲げ試験により破断に至る変位が1mm以上であり、1200℃における3点曲げ試験による0.2%耐力が900MPa以上であり、被覆層は窒化物を含み、金属成分としてTiを50〜96at%、Siを1〜20at%、Ta、Nb、Cr、W、Moから選ばれた元素のうち少なくとも1種を1〜30at%含む。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JPWO2018235750A1
公开(公告)日：2020-06-18
申请号：JP2018023026
申请日：2018-06-15
Applicant: 日本ピストンリング株式会社 , 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Abstract: 【課題】一定で安定した耐チッピング性と耐摩耗性を示すとともに耐剥離性(密着性)に優れる被覆膜を有する摺動部材、及びその被覆膜を提供する。 【解決手段】基材11の摺動面16に硬質炭素層からなる被覆膜1を有する摺動部材10であって、被覆膜1は、断面を明視野TEM像により観察したとき、相対的に黒で示される黒色の硬質炭素層Bと相対的に白で示される白色の硬質炭素層Wとを含む繰り返し単位が厚さ方向に積層されて1μm〜50μmの範囲内の厚さを有し、被覆膜1は、基材側に設けられて、繰り返し単位のうち白色の硬質炭素層Wの厚さが厚さ方向に徐々に大きくなる傾斜領域2と、摺動部材10の表面側に設けられて、繰り返し単位のうち白色の硬質炭素層Wの厚さが厚さ方向で同じ又は略同じ均質領域3とを有するように構成して上記課題を解決した。 【選択図】図2
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
23
records
(took 0.01 seconds)
