公开(公告)号：JP2019218598A

公开(公告)日：2019-12-26

申请号：JP2018116581

申请日：2018-06-20

Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社

Inventor： 石塚 浩 ,  西村 和也 ,  須藤 知仁

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/24

Abstract: 【課題】真空アーク蒸着装置に柱状の陰極部材を用いた場合に生じるマクロパーティクルの衝突による膜品質の低下を防止できる真空アーク蒸着技術を提供する。 【解決手段】陰極部材にトリガーを接触させてアーク放電を開始し、アーク放電に伴って陰極部材に形成されたアークスポットで陰極部材を蒸発させることによりプラズマを発生させ、陰極部材に対向して配置された基材の表面に陰極部材の材料を蒸着させて薄膜を形成する真空アーク蒸着装置であって、基材に向けて突出する柱状の陰極部材と、トリガーを兼用する板状のシャッターとを備え、板状のシャッターが回転して陰極部材の先端に近接した際に、トリガーが陰極部材の先端に接触すると共に、板状のシャッターが陰極部材と基材との間に配置されるように構成されている真空アーク蒸着装置。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6578489B2

公开(公告)日：2019-09-25

申请号：JP2016538266

申请日：2015-07-16

Applicant: 日本アイ・ティ・エフ株式会社

Inventor： 加藤 健治 ,  高橋 正人 ,  西村 和也 ,  石塚 浩 ,  森口 秀樹

IPC: C23C14/24 ,  C01B32/05 ,  C23C14/06