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公开(公告)号:CN103250224A
公开(公告)日:2013-08-14
申请号:CN201180052376.1
申请日:2011-10-27
Applicant: 日立造船株式会社
IPC: H01J33/00
Abstract: 本发明公开了用于制造诸如电子发射器等真空装置的系统和方法,所述真空装置包括放置于支承栅板上且与所述支承栅板接合的箔出射窗。在一种特定方法中,所述电子发射器的真空腔室在一端处具有用于形成出射窗的薄箔。所述薄箔可以是钛或任何适合的材料,并且所述箔在将该箔安装至所述支承栅板的粘合处理期间内通常将会扩展。在一种制造方法中,所述支承栅板设置有带弧面的表面:所述弧面典型地是光滑的凹陷表面,当真空将所述箔拉向所述栅板时,所述箔一旦扩展就能够搁置于所述光滑的凹陷表面上。