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公开(公告)号:CN114341206A
公开(公告)日:2022-04-12
申请号:CN202080061016.7
申请日:2020-08-26
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在制作硫化物时的加工性极其优异、制成硫化物后的耐磨耗性、操纵稳定性、破坏强度优异的共轭二烯系聚合物。一种共轭二烯系聚合物,其在100℃测定的门尼粘度为40以上170以下,在100℃测定的门尼应力松弛率为0.35以下,通过带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法求出的支化度(Bn)为8以上。
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公开(公告)号:CN119497723A
公开(公告)日:2025-02-21
申请号:CN202380051845.0
申请日:2023-08-10
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: C08C19/00 , B60C1/00 , C08F236/10 , C08K3/013 , C08L9/00
Abstract: 本发明提供满足下述 ~ 的共轭二烯系聚合物。 在100℃测定的门尼粘度为80以上170以下。 在100℃测定的门尼应力松弛率(MSR)为0.30以上0.80以下。 根据带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法,在表示绝对分子量与支化度(Bn)的关系的支化度分布曲线中具有向下凸的极值。
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公开(公告)号:CN119462990A
公开(公告)日:2025-02-18
申请号:CN202411526623.2
申请日:2020-08-26
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明涉及共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物的制造方法、共轭二烯系聚合物组合物以及橡胶组合物,目的在于提供一种在制作硫化物时的加工性极其优异、制成硫化物后的耐磨耗性、操纵稳定性、破坏强度优异的共轭二烯系聚合物。一种共轭二烯系聚合物,其是共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物的共聚物,其中,在100℃测定的门尼粘度为40以上170以下,在100℃测定的门尼应力松弛率为0.239以上0.35以下,通过带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法求出的支化度(Bn)为8以上,含有氮原子。
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公开(公告)号:CN115348975A
公开(公告)日:2022-11-15
申请号:CN202180024336.X
申请日:2021-04-02
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: C08C19/00 , C08C19/22 , C08C19/25 , C08F236/10 , C08F236/14 , C08L15/00 , C08K3/00 , C08K3/013
Abstract: 本发明提供硫化时的加工性优异、其硫化物的耐磨耗性和低磁滞损耗性优异的共轭二烯系聚合物。本发明涉及一种共轭二烯系聚合物,其通过带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法求出的支化度为7以上,键合芳香族乙烯基量为1质量%以上32质量%以下,键合共轭二烯中的乙烯基键合量为11mol%以上35mol%以下。
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公开(公告)号:CN114341206B
公开(公告)日:2024-12-20
申请号:CN202080061016.7
申请日:2020-08-26
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在制作硫化物时的加工性极其优异、制成硫化物后的耐磨耗性、操纵稳定性、破坏强度优异的共轭二烯系聚合物。一种共轭二烯系聚合物,其在100℃测定的门尼粘度为40以上170以下,在100℃测定的门尼应力松弛率为0.35以下,通过带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法求出的支化度(Bn)为8以上。
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公开(公告)号:CN115348975B
公开(公告)日:2024-10-22
申请号:CN202180024336.X
申请日:2021-04-02
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: C08C19/00 , C08C19/22 , C08C19/25 , C08F236/10 , C08F236/14 , C08L15/00 , C08K3/00 , C08K3/013
Abstract: 本发明提供硫化时的加工性优异、其硫化物的耐磨耗性和低磁滞损耗性优异的共轭二烯系聚合物。本发明涉及一种共轭二烯系聚合物,其通过带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法求出的支化度为7以上,键合芳香族乙烯基量为1质量%以上32质量%以下,键合共轭二烯中的乙烯基键合量为11mol%以上35mol%以下。
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