公开(公告)号：CN115348975B

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202180024336.X

申请日：2021-04-02

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 牛尾孝显 ,  当房崇吏 ,  久村谦太 ,  角谷省吾 ,  关川新一 ,  荒木祥文

IPC: C08C19/00 ,  C08C19/22 ,  C08C19/25 ,  C08F236/10 ,  C08F236/14 ,  C08L15/00 ,  C08K3/00 ,  C08K3/013

Abstract: 本发明提供硫化时的加工性优异、其硫化物的耐磨耗性和低磁滞损耗性优异的共轭二烯系聚合物。本发明涉及一种共轭二烯系聚合物，其通过带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法求出的支化度为7以上，键合芳香族乙烯基量为1质量％以上32质量％以下，键合共轭二烯中的乙烯基键合量为11mol％以上35mol％以下。

公开(公告)号：CN115348975A

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN202180024336.X

申请日：2021-04-02

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 牛尾孝显 ,  当房崇吏 ,  久村谦太 ,  角谷省吾 ,  关川新一 ,  荒木祥文

IPC: C08C19/00 ,  C08C19/22 ,  C08C19/25 ,  C08F236/10 ,  C08F236/14 ,  C08L15/00 ,  C08K3/00 ,  C08K3/013

Abstract: 本发明提供硫化时的加工性优异、其硫化物的耐磨耗性和低磁滞损耗性优异的共轭二烯系聚合物。本发明涉及一种共轭二烯系聚合物，其通过带粘度检测器的GPC‑光散射法测定法求出的支化度为7以上，键合芳香族乙烯基量为1质量％以上32质量％以下，键合共轭二烯中的乙烯基键合量为11mol％以上35mol％以下。