半导体装置的制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109075088B

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN201780028064.4

    申请日:2017-04-10

    Abstract: 本发明公开一种半导体装置的制造方法,所述半导体装置为具备具有连接部的半导体芯片和具有连接部的配线电路基板、且各自的连接部相互电连接的半导体装置,或为具备具有连接部的多个半导体芯片且各自的连接部相互电连接的半导体装置。连接部由金属构成。上述方法具备:(a)第一工序,将半导体芯片和配线电路基板、或将半导体芯片彼此以中间隔着半导体用粘接剂的状态,在低于连接部的金属的熔点的温度下,按照各自的连接部相互接触的方式压接,获得临时连接体;(b)第二工序,使用密封用树脂将临时连接体的至少一部分密封,获得密封临时连接体;以及(c)第三工序,将密封临时连接体以大于或等于连接部的金属的熔点的温度加热,获得密封连接体。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN112703583A

    公开(公告)日:2021-04-23

    申请号:CN201980058834.9

    申请日:2019-08-26

    Abstract: 本发明所涉及的制造方法用于制造半导体装置,该半导体装置包括:第一部件,具有第一连接部且具有直线状延伸的边;第二部件,具有第二连接部;及胶黏剂层,配置于第一部件及第二部件之间。本发明的制造方法包括:层叠工序,准备依次层叠第一部件、胶黏剂层及第二部件而成的层叠体;及压接工序,在对层叠体沿厚度方向施加按压力的状态下,对层叠体照射用于加热的激光,在压接工序中,以从第一部件的边的一端的周缘部朝向另一端的周缘部依次形成激光照射部、激光非照射部及激光照射部的方式,对层叠体照射激光。

Patent Agency Ranking