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    耐蝕性部材及びその製造方法
    2.
    发明申请
    耐蝕性部材及びその製造方法 审中-公开
    耐腐蚀成员及其生产方法

    公开(公告)号：WO2004070076A1

    公开(公告)日：2004-08-19

    申请号：PCT/JP2004/000652

    申请日：2004-01-26

    Applicant: 東ソー株式会社 ,  阿部 昌則 ,  高橋 小弥太 ,  新井 一喜 ,  高畑 努 ,  橋本 眞吉 ,  向後 雅則

    Inventor： 阿部 昌則 ,  高橋 小弥太 ,  新井 一喜 ,  高畑 努 ,  橋本 眞吉 ,  向後 雅則

    IPC: C23C4/10

    CPC classification number: C03C17/04 ,  C03C3/062 ,  C03C3/083 ,  C03C3/085 ,  C03C3/095 ,  C03C8/02 ,  C03C15/00 ,  C03C17/002 ,  C03C17/007 ,  C03C17/3417 ,  C03C19/00 ,  C03C2217/78 ,  C23C4/10 ,  C23C4/11 ,  C23D5/04 ,  Y02T50/67

    Abstract: CVD装置、プラズマ処理装置等に用いる部材は腐食性ガスとの反応、或いはプラズマによるエッチングにより消耗し、パーティクル発生による製品の汚染、歩留まり生産性低下の問題があった。また腐食性ガス、プラズマに耐性のあるガラスは耐熱強度が弱く、用いられる用途が限られていた。耐熱性の高い基材上に、2a族及び3a族及び4a族の元素からなる群より選ばれる少なくともひとつの元素を含む耐蝕性ガラス、特にアルミノシリケート又はジルコニアシリケート系のガラス溶射膜を被覆した部材では、腐食性ガス及びプラズマに対する耐蝕性と耐熱強度が高く、パーティクルの発生が少ない。

    Abstract translation: 在CVD装置，等离子体处理装置等中使用的构件通过与腐蚀性气体的反应或等离子体蚀刻而磨损，因此产生诸如由其形成的颗粒污染产品和降低生产率的问题。 耐腐蚀性气体和等离子体的玻璃的耐热强度较弱，因此应用有限。 由高耐热基底构成的构件，其覆盖有耐腐蚀玻璃的玻璃喷涂层，其含有至少一种选自组2a，组3a和组4a的元素的元素，特别是具有喷涂层 的硅酸铝或氧化锆硅酸盐对腐蚀性气体和等离子体的耐腐蚀性和耐热强度高，因此形成很少的颗粒。

    熔融石英ガラスおよびその製造方法
    3.
    发明申请
    熔融石英ガラスおよびその製造方法 审中-公开
    熔融石英玻璃及其制造方法

    公开(公告)号：WO2008032698A1

    公开(公告)日：2008-03-20

    申请号：PCT/JP2007/067639

    申请日：2007-09-11

    Applicant: 東ソー株式会社 ,  東ソー・エスジーエム株式会社 ,  新井 一喜 ,  高畑 努 ,  橋本 眞吉 ,  内田 雅人 ,  山田 修輔 ,  原田 美徳 ,  堀越 秀春

    Inventor： 新井 一喜 ,  高畑 努 ,  橋本 眞吉 ,  内田 雅人 ,  山田 修輔 ,  原田 美徳 ,  堀越 秀春

    IPC: C03B20/00

    CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

    Abstract: 　波長２４５ｎｍの紫外光に対する厚さ１０ｍｍでの内部透過率が９５％以上であり、ＯＨ含有量が５ｐｐｍ以下、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｃｕの含有量が各々０．１ｐｐｍ未満である熔融石英ガラス。好ましくは、この熔融石英ガラスの１２１５°Cにおける粘性率は１０ 11.5 Ｐａ・ｓ以上であり、また、１０５０°Cで大気中に２４時間放置時の、表面からの深さが２０μｍを超え、１００μｍまでの領域におけるＣｕイオンの拡散係数が１×１０ -10 ｃｍ 2 ／ｓｅｃ以下である。この熔融石英ガラスは、原料シリカ粉をクリストバライト化し、次いで、非還元性雰囲気中で熔融することにより製造される。この熔融石英ガラスは、紫外線、可視光線、赤外線の透過率が高く、高純度で耐熱性が高く、金属不純物の拡散速度が小さいという特性を有し、各種光学材料、半導体製造用部材、液晶製造用部材などとして好適である。

    Abstract translation: 包含5ppm以下的OH和Li，Na，K，Mg，Ca和Cu的熔融石英玻璃，其含量小于0.1ppm，表现出内部透射率，以10mm的厚度测量， 相对于245nm波长的紫外线辐射，为95％以上。 优选地，熔融石英玻璃在1215℃下的粘度系数为11.5Pa·s以上，并且显示Cu离子扩散系数，其在超过20μm至100nm的范围内测量 当在1050℃的大气中放置24小时时，其表面深度为10埃-10 -2厘米2 /秒以下。 该熔融石英玻璃通过将原料二氧化硅粉末转化为方英石，然后在非还原性气氛中将其熔融而制得。 该熔融石英玻璃具有紫外线，可见光和红外线的透射率高，高纯度，耐热性高，金属杂质扩散速度低的特性，因此适用于 各种光学材料，半导体制造用构件，液晶制造用构件等。

    組成物、製造方法およびその用途
    8.
    发明专利
    組成物、製造方法およびその用途 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018123243A

    公开(公告)日：2018-08-09

    申请号：JP2017016768

    申请日：2017-02-01

    Applicant: 東ソー株式会社

    Inventor： 新井 一喜

    IPC: F28D20/02 ,  C09K5/12

    CPC classification number: Y02E60/145 ,  Y02E70/30

    Abstract: 【課題】 凝固温度が低くかつ300℃〜800℃の高温域で使用可能であり、さらに資源的な制約が少ない組成物を提供する。さらに、これらの組成物を用いた熱移送システムや蓄熱システム、これらを備えた再生可能エネルギープラントや化学プラントを提供する。 【解決手段】 Li、K及びBrを含む組成物であり、好ましくは以下の組成を有する。 [Li] 25原子%以上95原子%以下 [K] 5原子%以上75原子%以下 当該組成物は、Li、K、Brを含む原料を混合する混合工程を有する方法により製造することができる。 【選択図】図2

    不透明石英ガラスおよびその製造方法
    10.
    发明专利
    不透明石英ガラスおよびその製造方法 有权
    OPAQUE QUARTZ玻璃及其生产方法

    公开(公告)号：JP2015209372A

    公开(公告)日：2015-11-24

    申请号：JP2014094127

    申请日：2014-04-30

    Applicant: 東ソー株式会社

    Inventor： 平井 聡里 ,  山田 修輔 ,  新井 一喜

    IPC: C03B19/06 ,  C03B20/00

    Abstract: 【課題】 本発明は、吸水性がなく、かつ赤外光の遮光性に優れる不透明石英ガラス及びその製造方法を提供することである。 【解決手段】 本発明は、密度が1.95g/cm 3 以上2.15g/cm 3 以下であり、平均気孔径が5〜20μmであり、密度の変動係数が0.02以下であることを特徴とする不透明石英ガラスである。 【選択図】 なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供不吸水性并且对红外光具有优异的遮光效果的不透明石英玻璃，以及制造不透明石英玻璃的方法。溶液：根据本发明的不透明石英玻璃的密度为1.95g / cm 2以上2.15g / cm 3以下，平均孔径为5-20μm，密度变化系数为0.02以下。

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