-
公开(公告)号：CN108293279B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201680068450.1
申请日：2016-11-22
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
Abstract: 本发明的课题是提供能够实现携带时的小型化的发光装置。本发明的发光装置依次层叠有发光面侧树脂基材、有机发光元件和背面侧基材，其特征在于，在上述发光面侧树脂基材与有机发光元件之间和上述有机发光元件与背面侧基材之间中的至少任一方具有以无机材料为主成分的气体阻隔层，并且，发光装置在支承部件上具有固定部和可动部地被支承，而且，具有携带时上述有机发光元件的上述可动部所形成的曲面的曲率半径为1.0～10.0mm的范围内的曲面部。
-
公开(公告)号：CN107249874A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680011634.4
申请日：2016-02-24
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
Abstract: 本发明提供一种高温高湿环境下耐久性优异的阻气性膜。一种阻气性膜，其在树脂基材上具有：层(A)，其含有过渡金属化合物，并且，通过气相成膜法形成；阻气层(B)，其与所述层(A)相接，并且通过涂布含有聚硅氮烷的涂布液并进行干燥而得到的涂膜施加真空紫外线而形成，所述涂膜表面的所述真空紫外线的照射能量为1.0J/cm2以上。
-
公开(公告)号：CN103269851B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201180062272.9
申请日：2011-12-01
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
CPC classification number: H01L23/564 , C08J7/042 , C08J2383/02 , C23C14/0676 , C23C14/562 , C23C16/0272 , C23C16/308 , C23C16/345 , C23C26/00 , C23C28/04 , H01L2924/0002 , Y10T428/26 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于提供气体阻隔性能、耐热性优异的气体阻隔性膜和使用了其的耐久性优异的电子器件。本发明在基材上按以下顺序具有通过物理蒸镀法或化学蒸镀法形成了的含有Si和N的第1气体阻隔层和涂布含有聚硅氮烷化合物的溶液而形成了的第2气体阻隔层，该第2气体阻隔层照射真空紫外线而实施改性处理，在将各自的层的组成用SiOxNy表示时，该第2气体阻隔层的厚度方向中的组成SiOxNy的分布满足由下述(A)规定的条件。(A)该第2气体阻隔层在厚度方向具有50nm以上的0.25≤x≤1.1且0.4≤y≤0.75的区域。
-
公开(公告)号：CN111065515B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN201880057076.4
申请日：2018-08-15
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
Abstract: 本发明的技术问题是提供可以高精度地对纵向条纹状的微细的划痕、横段状地出现的阻气性变化的周期性进行检测的阻气性膜。本发明的阻气性膜(1)在长条状的树脂基材(4)上具备阻气层(5)、第1及第2水蒸气阻隔性试验区域部(10)、(20)，第1及第2水蒸气阻隔性试验区域部(10)、(20)分别具有第1或第2水分反应性金属层(12)、(22)和密封第1或第2水分反应性金属层(12)、(22)的第1或第2水蒸气非透过性层(11)、(21)，第1水分反应性金属层(12)和第2水分反应性金属层(22)形成为下述构成：以从树脂基材(4)的长度方向及宽度方向的至少一个方向观察时存在彼此部分重叠的部分(L1)的方式而配置而成的构成。
-
公开(公告)号：CN111065515A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201880057076.4
申请日：2018-08-15
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
Abstract: 本发明的技术问题是提供可以高精度地对纵向条纹状的微细的划痕、横段状地出现的阻气性变化的周期性进行检测的阻气性膜。本发明的阻气性膜(1)在长条状的树脂基材(4)上具备阻气层(5)、第1及第2水蒸气阻隔性试验区域部(10)、(20)，第1及第2水蒸气阻隔性试验区域部(10)、(20)分别具有第1或第2水分反应性金属层(12)、(22)和密封第1或第2水分反应性金属层(12)、(22)的第1或第2水蒸气非透过性层(11)、(21)，第1水分反应性金属层(12)和第2水分反应性金属层(22)形成为下述构成：以从树脂基材(4)的长度方向及宽度方向的至少一个方向观察时存在彼此部分重叠的部分(L1)的方式而配置而成的构成。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110418859A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201880017865.5
申请日：2018-03-09
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
Abstract: 制作如下的具有高的气体阻隔性和透明性的气体阻隔膜：在将组成用SiOxCy表示时，在厚度方向上以20nm以上且1000nm以下的范围具有在将横轴设为x、将纵轴设为y的正交坐标上由A(x＝0.8、y＝0.8)、B(x＝1.2、y＝0.8)、C(x＝1.9、y＝0.1)、D(x＝1.9、y＝0.0)、E(x＝0.8、y＝0.55)这5点包围的区域内存在的组成，算术平均粗糙度(Ra)为2.0nm以下。
-
公开(公告)号：CN110225823A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201780083581.1
申请日：2017-12-19
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
Abstract: 本发明涉及功能性膜层叠体及电子器件的制造方法，所述功能性膜层叠体具备：具有在基材的第1面侧所形成的功能性层及在基材的第2面侧所形成的树脂固化层的功能性膜、和与树脂固化层相接地贴合的可剥离的保护膜；树脂固化层的平均表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)为1.1nm以上且5nm以下，保护膜的粘合力用平均值表示，为0.15N/25mm以上且0.5N/25mm以下，并且[粘合力(N/25mm)/Ra(nm)]的值为0.1以上且0.3以下。
-
公开(公告)号：CN103796827B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201280031320.2
申请日：2012-06-13
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
IPC: B32B9/00 , B05D1/38 , B05D3/06 , B05D7/24 , B32B5/14 , B32B27/00 , B32B27/16 , H01L51/50 , H05B33/04
CPC classification number: H01L31/0203 , B05D3/067 , B05D3/145 , B05D7/04 , B05D7/546 , B05D7/586 , B05D2252/10 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/281 , B32B27/283 , B32B27/285 , B32B27/286 , B32B27/302 , B32B27/304 , B32B27/32 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2307/7242 , B32B2457/00 , C23C16/0272 , C23C16/308 , C23C16/345 , C23C18/14 , H01L31/049 , H01L51/524 , H01L51/5253 , H01L2251/558 , Y02E10/50 , Y10T428/24975
Abstract: 本发明的目的在于提供具有非常优异的气体阻隔性能和高的耐久性的气体阻隔性膜、其制造方法及使用了其的电子器件。本发明的气体阻隔性膜为在基材上层叠了至少含有Si、O和N的气体阻隔层2层以上的气体阻隔性膜，其特征在于，在气体阻隔层全体中厚度方向的组成分布如下：从接近基材方依次具有满足下述(A)的组成范围的在厚度方向上连续了的20nm以上的区域和满足下述(B)的组成范围的在厚度方向上连续了的50nm以上的区域。(A)在由SiOwNx表示气体阻隔层的组成时，为w≥0.8、x≥0.3、2w＋3x≤4。(B)在由SiOyNz表示气体阻隔层的组成时，为0＜y≤0.55、z≥0.55、2y＋3z≤4。
-
公开(公告)号：CN103958182A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280057161.3
申请日：2012-11-16
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 森孝博
IPC: B32B9/00
CPC classification number: H01L51/5246 , C08J7/042 , C08J7/047 , C08J2483/16 , H01L51/5253 , H05K5/069 , Y10T428/239 , Y10T428/24364 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种气体阻隔膜(10)，其在基体材料(11)上具备对含有聚硅氮烷的层实施真空紫外线照射而成的气体阻隔层(14)，其中，所述气体阻隔层(14)相对于该气体阻隔层整体在1质量％以上且40质量％以下的范围含有满足下述(a)、(b)、(c)全部的化合物A。(a)具有Si-O键，且具有与Si直接键合的有机基团。(b)具有Si-H基或Si-OH基。(c)分子量为90以上且1200以下。
-
公开(公告)号：CN110114213B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201780080718.8
申请日：2017-12-19
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的气体阻隔性膜是在基材上依次形成有第一气体阻隔层和第二气体阻隔层的气体阻隔性膜，上述第二气体阻隔层为聚硅氮烷改性层，且上述第二气体阻隔层的表面的以纳米压痕法测定的弹性模量和硬度满足下述条件[A]和[B]。[A]弹性模量：8～17GPa的范围内，[B]硬度：硬度≤0.18×弹性模量+2.1GPa。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
23
records
(took 0.043 seconds)
