公开(公告)号：CN110114213B

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN201780080718.8

申请日：2017-12-19

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 高木宏司 ,  森孝博

IPC: B32B9/00 ,  B05D3/06 ,  B05D5/00 ,  B05D7/04 ,  B05D7/24 ,  C23C16/42

Abstract: 本发明的气体阻隔性膜是在基材上依次形成有第一气体阻隔层和第二气体阻隔层的气体阻隔性膜，上述第二气体阻隔层为聚硅氮烷改性层，且上述第二气体阻隔层的表面的以纳米压痕法测定的弹性模量和硬度满足下述条件[A]和[B]。[A]弹性模量：8～17GPa的范围内，[B]硬度：硬度≤0.18×弹性模量+2.1GPa。

公开(公告)号：CN110114213A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201780080718.8

申请日：2017-12-19

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 高木宏司 ,  森孝博

IPC: B32B9/00 ,  B05D3/06 ,  B05D5/00 ,  B05D7/04 ,  B05D7/24 ,  C23C16/42

Abstract: 本发明的气体阻隔性膜是在基材上依次形成有第一气体阻隔层和第二气体阻隔层的气体阻隔性膜，上述第二气体阻隔层为聚硅氮烷改性层，且上述第二气体阻隔层的表面的以纳米压痕法测定的弹性模量和硬度满足下述条件[A]和[B]。[A]弹性模量：8～17GPa的范围内，[B]硬度：硬度≤0.18×弹性模量+2.1GPa。