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公开(公告)号：CN110663100B
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN201780091241.3
申请日：2017-08-17
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 佐佐木友野
IPC: H01L21/304 , B01J4/00
Abstract: 一种稀药液制造装置(1)具有药液储槽(2)、从此药液储槽(2)供给药液(S)的柱塞泵(4)、和药液供给管(3)。药液储槽(2)与向该药液储槽(2)补充药液(S)的药液供给机构(5)和将N2气体作为吹扫气体供给到药液储槽(2)中的吹扫气体供给机构(6)连通，并且其上设置有作为压力测量机构的第一压力计(7)。另外，在柱塞泵(4)的顶部连接有下水配管(8)，在此下水配管(8)上设置有脱空气设备即基于自动控制的脱空气阀(9)。另一方面，在药液供给管(3)的途中设置有第二压力计(10)，其下游侧的前端是药液(S)的注入点(11)。根据该稀药液制造装置，能够以简单的结构稳定地制造的极低浓度的酸、碱等的稀药液。
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公开(公告)号：CN114269696A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080059668.7
申请日：2020-09-15
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: C02F9/08 , C02F101/30
Abstract: 本发明提供一种能够稳定地制造目标TOC水质的处理水的TOC处理装置和处理方法。TOC处理装置构成为具有对被处理水照射紫外线来分解TOC成分的紫外线氧化装置(2)和去离子装置(4)，其特征在于，具有：流量计，测量紫外线氧化装置(2)的流量；TOC计(6)，测量去离子装置(4)的流出水的TOC浓度；以及控制装置(7)，被输入流量计的测量值和TOC计(4)的测量值，并基于这些测量值控制紫外线氧化装置(2)的紫外线照射量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110663100A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201780091241.3
申请日：2017-08-17
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 佐佐木友野
IPC: H01L21/304 , B01J4/00
Abstract: 一种稀药液制造装置(1)具有药液储槽(2)、从此药液储槽(2)供给药液(S)的柱塞泵(4)、和药液供给管(3)。药液储槽(2)与向该药液储槽(2)补充药液(S)的药液供给机构(5)和将N2气体作为吹扫气体供给到药液储槽(2)中的吹扫气体供给机构(6)连通，并且其上设置有作为压力测量机构的第一压力计(7)。另外，在柱塞泵(4)的顶部连接有下水配管(8)，在此下水配管(8)上设置有脱空气设备即基于自动控制的脱空气阀(9)。另一方面，在药液供给管(3)的途中设置有第二压力计(10)，其下游侧的前端是药液(S)的注入点(11)。根据该稀药液制造装置，能够以简单的结构稳定地制造的极低浓度的酸、碱等的稀药液。
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公开(公告)号：CN105764856A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201380081195.0
申请日：2013-11-25
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: C02F1/00
CPC classification number: C02F1/008 , B01D61/025 , B01D61/04 , B01D61/12 , B01D2311/04 , B01D2311/103 , B01D2311/243 , C02F1/441 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/05 , C02F2209/08 , C02F2209/16 , C02F2209/20 , C02F2209/30 , C02F2209/40 , C02F2303/22 , G05B13/0205
Abstract: 本发明提供了一种水处理设备的控制方法，其包括：相关判断步骤，其基于定期进行的被处理水的样本分析的结果，来判断在上述被处理水中是否存在水质指标与相对于上述水质指标无因果关系的污浊成分的浓度之间的相关；第1污浊成分浓度推断步骤，其以存在上述相关为条件，统计分析上述被处理水的最近固定期间的上述水质指标的计测值的分布，基于该统计分析的结果和上述相关，推断上述被处理水的上述污浊成分的浓度；以及运转条件决定步骤，其基于推断得到的上述被处理水的上述污浊成分的浓度，确定处理上述被处理水的水处理设备的运转条件。
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公开(公告)号：CN114269696B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202080059668.7
申请日：2020-09-15
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: C02F1/32 , C02F1/42 , C02F101/30
Abstract: 本发明提供一种能够稳定地制造目标TOC水质的处理水的TOC处理装置和处理方法。TOC处理装置构成为具有对被处理水照射紫外线来分解TOC成分的紫外线氧化装置(2)和去离子装置(4)，其特征在于，具有：流量计，测量紫外线氧化装置(2)的流量；TOC计(6)，测量去离子装置(4)的流出水的TOC浓度；以及控制装置(7)，被输入流量计的测量值和TOC计(4)的测量值，并基于这些测量值控制紫外线氧化装置(2)的紫外线照射量。
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公开(公告)号：CN105764856B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201380081195.0
申请日：2013-11-25
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: C02F1/00
Abstract: 本发明提供了一种水处理设备的控制方法，其包括：相关判断步骤，其基于定期进行的被处理水的样本分析的结果，来判断在上述被处理水中是否存在水质指标与相对于上述水质指标无因果关系的污浊成分的浓度之间的相关；第1污浊成分浓度推断步骤，其以存在上述相关为条件，统计分析上述被处理水的最近固定期间的上述水质指标的计测值的分布，基于该统计分析的结果和上述相关，推断上述被处理水的上述污浊成分的浓度；以及运转条件决定步骤，其基于推断得到的上述被处理水的上述污浊成分的浓度，确定处理上述被处理水的水处理设备的运转条件。
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公开(公告)号：CN107076716A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201680002983.X
申请日：2016-01-06
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: G01N31/00 , G01N31/10 , G01N31/12 , H01L21/304
CPC classification number: G01N31/12 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B3/12 , B08B3/14 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67276
Abstract: 不受金属等混入杂质影响，而简便且稳定地准确测定电子材料的洗净工序中使用的氧化性洗净液中的氧化剂浓度。一种氧化剂浓度的测定方法，其在测定用作电子材料洗净工序的洗净液的试样液中的氧化剂浓度时，使试样液中的氧化剂的至少一部分通过加热等而分解，测定因氧化剂的分解而产生的氧气的释放量，基于该测定值求出试样液的氧化剂浓度。
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