公开(公告)号：CN102288141A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN201110167570.6

申请日：2011-06-20

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 川村香苗 ,  町田信美 ,  规矩智茂雄 ,  福田满

IPC: G01B21/00

CPC classification number: G01B21/045

Abstract: 一种工业机器，包括：移动机构，用于沿着特定轴方向移动；控制器，用于控制所述移动机构；以及角度检测器，用于检测所述移动机构相对于与所述特定轴方向垂直的轴的角度，其中，所述控制器包括：角度误差获取部，用于基于在所述移动机构移动时检测到的角度，针对所述移动机构的各个位置获取所述移动机构的角度误差；参数生成器，用于通过在所述移动机构的各个位置处对所述角度误差进行积分来生成各个直线度校正参数，所述直线度校正参数用于校正所述移动机构在所述特定轴方向上的直线度误差；以及校正部，用于基于所述直线度校正参数来校正所述移动机构的移动误差。

公开(公告)号：CN102749039A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201210113003.7

申请日：2012-04-17

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 根本贤太郎 ,  山县正意 ,  岩本正 ,  町田信美

IPC: G01B11/24

CPC classification number: G01B11/03 ,  G01B11/2518 ,  G06T7/521 ,  G06T2207/30164

Abstract: 本发明公开了一种形状测量设备，包括：光照射单元，其将线状光照射到工件上；成像元件，其使由所述工件反射的反射光成像；以及成像透镜，其将由所述工件反射的反射光的像形成在所述成像元件的成像平面上，并且，所述光照射单元的光照射平面、包括所述成像透镜的主点的主平面、以及所述成像元件的成像平面满足沙姆普弗鲁克原理。所述形状测量设备还包括：像获取区域选择单元，其将所述成像元件的成像平面划分为多个区域，并响应于测量精度和测量范围的大小中的至少一个，从所述多个区域中选择用于在测量中使用的区域作为像获取区域。

公开(公告)号：CN102288141B

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201110167570.6

申请日：2011-06-20

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 川村香苗 ,  町田信美 ,  规矩智茂雄 ,  福田满

IPC: G01B21/00

CPC classification number: G01B21/045

Abstract: 一种工业机器，包括：移动机构，用于沿着特定轴方向移动；控制器，用于控制所述移动机构；以及角度检测器，用于检测所述移动机构相对于与所述特定轴方向垂直的轴的角度，其中，所述控制器包括：角度误差获取部，用于基于在所述移动机构移动时检测到的角度，针对所述移动机构的各个位置获取所述移动机构的角度误差；参数生成器，用于通过在所述移动机构的各个位置处对所述角度误差进行积分来生成各个直线度校正参数，所述直线度校正参数用于校正所述移动机构在所述特定轴方向上的直线度误差；以及校正部，用于基于所述直线度校正参数来校正所述移动机构的移动误差。

公开(公告)号：CN102749039B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201210113003.7

申请日：2012-04-17

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 根本贤太郎 ,  山县正意 ,  岩本正 ,  町田信美

IPC: G01B11/24

CPC classification number: G01B11/03 ,  G01B11/2518 ,  G06T7/521 ,  G06T2207/30164

Abstract: 本发明公开了一种形状测量设备，包括：光照射单元，其将线状光照射到工件上；成像元件，其使由所述工件反射的反射光成像；以及成像透镜，其将由所述工件反射的反射光的像形成在所述成像元件的成像平面上，并且，所述光照射单元的光照射平面、包括所述成像透镜的主点的主平面、以及所述成像元件的成像平面满足沙姆普弗鲁克原理。所述形状测量设备还包括：像获取区域选择单元，其将所述成像元件的成像平面划分为多个区域，并响应于测量精度和测量范围的大小中的至少一个，从所述多个区域中选择用于在测量中使用的区域作为像获取区域。