半导体器件的制造方法和半导体器件的制造设备

    公开(公告)号:CN1525536A

    公开(公告)日:2004-09-01

    申请号:CN200410006906.0

    申请日:2004-02-26

    CPC classification number: H01L21/78

    Abstract: 本发明是以提供一种能抑制芯片抗折强度降低,在组装工序和可靠性试验等中可防止半导体芯片破裂的半导体器件制造方法。在半导体晶片21中形成半导体器件,沿划片线24对该半导体晶片划。然后,是以向半导体晶片的划片区26照射激光束28,使由于划片而形成的切削条痕熔融或气化为特征。在用于分割半导体晶片的划片工序后,采用对半导体芯片25-1、25-2、25-3、…的上边和侧面照射激光束的办法,熔融或气化切断面,消除由于切削条痕而引起的畸变和碎裂,因而会加强半导体芯片的抗折强度。

    半导体装置及其制造方法及制造装置

    公开(公告)号:CN102610566B

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201210017248.X

    申请日:2012-01-19

    CPC classification number: H01L21/78 H01L21/6836

    Abstract: 本发明提供半导体装置及其制造方法及制造装置。根据一实施例,公开了半导体装置的制造方法。该方法包含:(a)在形成有半导体元件的半导体晶片的元件形成面形成切断沟的步骤;(b)在上述半导体晶片的元件形成面贴附保护带的步骤;(c)研削上述半导体晶片的背面,使上述半导体晶片薄化,并将上述半导体晶片分割为形成有半导体元件的多个半导体芯片的步骤;(d)在上述半导体晶片的背面形成粘接剂层的步骤;(e)通过加热在上述半导体晶片的背面形成的上述粘接剂层使其熔融或软化并向上述粘接剂层吹出高压空气,将上述粘接剂层按每个上述半导体芯片分离切断的步骤;以及(f)剥离上述保护带的步骤。

    半导体晶片的加工方法、加工装置以及半导体晶片

    公开(公告)号:CN102848303A

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201210069407.0

    申请日:2012-03-15

    CPC classification number: H01L21/304 B24B7/228 H01L21/3043

    Abstract: 本发明提供半导体晶片的加工方法、加工装置以及半导体晶片。通过实施例公开半导体晶片加工方法。该方法包括以下工序:用第一砂轮或刀片对在表面形成有半导体元件的半导体晶片背面的外缘部进行研磨以形成环状的槽的工序;用第二砂轮对所述槽内侧的凸部进行研磨以在所述半导体晶片的背面与所述槽一体地形成凹部的工序;和用第三砂轮进一步对包含由所述第二砂轮研磨出的研磨面的所述凹部的底面进行研磨的工序。

    半导体器件的制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1282227C

    公开(公告)日:2006-10-25

    申请号:CN02152988.4

    申请日:2002-11-29

    CPC classification number: H01L21/78

    Abstract: 一种半导体器件的制造方法,其特征在于,包括下述步骤:在形成了半导体元件的晶片的元件形成面一侧形成切口;在上述晶片的元件形成面一侧粘贴具有伸展性的表面保护带;以上述切口为起点、沿结晶方位解理上述晶片;以及伸展上述表面保护带,在解理面分开的状态下进行上述晶片的背面磨削。由此,能减少芯片侧面发生的条痕及元件形成面一侧形成的崩裂,并能抑制减薄了厚度的芯片的抗折强度的下降。

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