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公开(公告)号:CN102449705A
公开(公告)日:2012-05-09
申请号:CN201080023836.3
申请日:2010-05-28
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明公开了抑制放射性物质沉积的方法和系统。通过氧化物膜除去步骤和钛氧化物沉积步骤有效抑制放射性物质,在所述氧化物膜除去步骤中,除去金属材料表面上的氧化物膜,所述金属材料表面与含有放射性物质的冷却剂接触,在所述钛氧化物沉积步骤中,在已除去所述氧化物膜之后,在所述金属材料表面上沉积钛氧化物。
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公开(公告)号:CN102449705B
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201080023836.3
申请日:2010-05-28
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明公开了抑制放射性物质沉积的方法和系统。通过氧化物膜除去步骤和钛氧化物沉积步骤有效抑制放射性物质,在所述氧化物膜除去步骤中,除去金属材料表面上的氧化物膜,所述金属材料表面与含有放射性物质的冷却剂接触,在所述钛氧化物沉积步骤中,在已除去所述氧化物膜之后,在所述金属材料表面上沉积钛氧化物。
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