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公开(公告)号：CN102449705B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201080023836.3
申请日：2010-05-28
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明公开了抑制放射性物质沉积的方法和系统。通过氧化物膜除去步骤和钛氧化物沉积步骤有效抑制放射性物质，在所述氧化物膜除去步骤中，除去金属材料表面上的氧化物膜，所述金属材料表面与含有放射性物质的冷却剂接触，在所述钛氧化物沉积步骤中，在已除去所述氧化物膜之后，在所述金属材料表面上沉积钛氧化物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102449705A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080023836.3
申请日：2010-05-28
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明公开了抑制放射性物质沉积的方法和系统。通过氧化物膜除去步骤和钛氧化物沉积步骤有效抑制放射性物质，在所述氧化物膜除去步骤中，除去金属材料表面上的氧化物膜，所述金属材料表面与含有放射性物质的冷却剂接触，在所述钛氧化物沉积步骤中，在已除去所述氧化物膜之后，在所述金属材料表面上沉积钛氧化物。
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公开(公告)号：CN1287388C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200410032867.1
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。
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公开(公告)号：CN1540675A
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN200410032867.1
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。
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