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发明公开
感光性元件、层叠体及其制造方法、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN117835533A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202410174840.3

申请日：2016-07-07

Applicant: 株式会社力森诺科

Inventor： 粂壮和 , 小野博史 , 松村辽 , 大桥武志 , 吉回公博 , 阿部弘行 , 大友聪

IPC: H05K1/02 , H05K3/00 , H05K3/06

Abstract: 本发明涉及感光性元件、层叠体及其制造方法、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。本发明的层叠体依次具备基板、感光层和中间层，并且在所述中间层的与所述感光层侧相反一侧的面中，直径大于或等于3μm的凹部的数量为小于或等于30个/mm2。

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