公开(公告)号：CN112542417B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202010823740.0

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置以及基板搬运方法。本发明涉及一种基板处理装置(1)以及基板搬运方法。手部(61)具有基座部(65)、吸引部(68)、第一接受部(82)、第二接受部(83)以及接受部驱动部(86)。吸引部(68)安装于基座部(65)。吸引部使气体沿基板(W)的上表面(16)流动，以不与基板接触的方式将基板向上方吸引。第一接受部以及第二接受部被基座部支撑。第一接受部以及第二接受部配置在被吸引部吸引的基板的下方。第一接受部以及第二接受部能够接受基板的下表面。接受部驱动部使第二接受部相对于基座部移动。接受部驱动部使第二接受部接近第一接受部，并且使第二接受部与第一接受部远离。

公开(公告)号：CN116805606A

公开(公告)日：2023-09-26

申请号：CN202310293124.2

申请日：2023-03-23

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  森冈利仁 ,  蒲裕充 ,  太田乔

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 衬底处理装置中，对衬底(9)的下表面(92)与基座部(21)的基座面(210)之间送出气体，形成朝向径向外侧的气流(93)，通过伯努利效应，在衬底(9)与基座部(21)之间的空间产生压力下降。基座面(210)的第2面(212)随着朝向径向外侧而朝向上方。第3面(213)随着从第2面(212)的外周缘朝向径向外侧而朝向下方。第4面(214)是与第3面(213)的下端缘连续的圆环状的面。第4面(214)在比衬底(9)的外周缘更靠径向外侧向径向外侧扩展。由此，能抑制处理液附着到衬底(9)的下表面(92)，且提高衬底(9)的保持的稳定性。

公开(公告)号：CN112542417A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010823740.0

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置以及基板搬运方法。本发明涉及一种基板处理装置(1)以及基板搬运方法。手部(61)具有基座部(65)、吸引部(68)、第一接受部(82)、第二接受部(83)以及接受部驱动部(86)。吸引部(68)安装于基座部(65)。吸引部使气体沿基板(W)的上表面(16)流动，以不与基板接触的方式将基板向上方吸引。第一接受部以及第二接受部被基座部支撑。第一接受部以及第二接受部配置在被吸引部吸引的基板的下方。第一接受部以及第二接受部能够接受基板的下表面。接受部驱动部使第二接受部相对于基座部移动。接受部驱动部使第二接受部接近第一接受部，并且使第二接受部与第一接受部远离。

公开(公告)号：CN114649193B

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202111545593.6

申请日：2021-12-16

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 日野出大辉 ,  逸见昂史 ,  太田乔 ,  中西恭平 ,  中泽和彦

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 本申请公开了一种基板清洗方法及基板清洗装置，本申请说明书公开的技术是抑制对通过伯努利吸盘被保持的基板进行清洗的清洗液在清洗喷嘴内残留的技术。在本申请说明书公开的技术中，基板清洗方法是对被伯努利吸盘保持的基板进行清洗的基板清洗方法，具备：经由清洗喷嘴向与保持基板的保持面对置的面即基板的下表面供给清洗液的工序；以及在供给清洗液的工序之后，在基板被伯努利吸盘保持的状态下对清洗喷嘴内进行抽吸的工序。

公开(公告)号：CN112542416A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010823737.9

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有第一处理单元(7A)和第二处理单元(7B)。第一处理单元(7A)具有第一基板保持部(91A)和第一旋转驱动部(92A)。第一基板保持部91A具有第一板(101)、固定销(103)以及气体吹出口(104)。第二处理单元(7B)具有第二板(131)和端缘接触销(133)。基板处理装置(1)具有搬运机构(8)和控制部(9)。搬运机构(8)向处理单元(7)搬运基板(W)。控制部(9)根据基板(W)的形状将处理基板(W)的处理单元(7)确定为第一处理单元(7A)以及第二处理单元(7B)中的某一个，并通过搬运机构(8)向确定的处理单元(7)搬运基板(W)。

公开(公告)号：CN112542411A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010824054.5

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有容纳架载置部(3)、搬运机构(4)、控制部(9)。容纳架载置部载置容纳架(C)。容纳架具有在上下方向(Z)上排列的多个搁板(22)。搁板分别以水平姿势载置一张基板(W)。搬运机构向载置于容纳架载置部的容纳架(C)搬运基板。控制部(9)控制搬运机构(4)。搬运机构(4)具有手部(33)和手部驱动部(34)。手部支撑基板。手部驱动部(34)使手部(33)移动。控制部(9)根据搬运机构从搁板取下的基板或搬运机构(4)放置于搁板的基板的形状，改变向沿上下方向(Z)相邻的两个搁板(22)之间插入手部(33)时的手部的高度位置(HA)。

公开(公告)号：CN110911267A

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201910688477.6

申请日：2019-07-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  村元僚

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，在基板处理装置中，在使形成有图案的第一主面朝向下方的状态下保持基板(9)，并且对朝向上方的第二主面用处理液进行处理。在与外部的搬运机构交接基板时，由升降部(22)的多个升降支撑面从下方支撑基板的外周缘。夹具部(23)的多个夹具抵接面与由升降部支撑的基板的外周端面抵接，从而保持基板。由此，能够抑制第一主面的外周缘附近的图案的损伤。在夹具部中，在使一部分的夹具抵接面从基板的外周端面分离的状态下，能够保持基板，在向第二主面供给处理液的期间，由夹具切换机构切换从外周端面分离的夹具抵接面。由此，能够抑制基板的外周缘的处理液的痕迹的产生。

公开(公告)号：CN119133053A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202411292170.1

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有容纳架载置部(3)、搬运机构(4)、控制部(9)。容纳架载置部载置容纳架(C)。容纳架具有在上下方向(Z)上排列的多个搁板(22)。搁板分别以水平姿势载置一张基板(W)。搬运机构向载置于容纳架载置部的容纳架(C)搬运基板。控制部(9)控制搬运机构(4)。搬运机构(4)具有手部(33)和手部驱动部(34)。手部支撑基板。手部驱动部(34)使手部(33)移动。控制部(9)根据搬运机构从搁板取下的基板或搬运机构(4)放置于搁板的基板的形状，改变向沿上下方向(Z)相邻的两个搁板(22)之间插入手部(33)时的手部的高度位置(HA)。

公开(公告)号：CN112542399B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202010823747.2

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  高山祐一 ,  森冈利仁 ,  蒲裕充 ,  佐藤卓也 ,  日野出大辉 ,  菊本宪幸 ,  坂田健典 ,  太田乔

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置(1)。基板处理方法具有向由固定销(103)在比第一板(101)的上表面(102)更靠上方的位置支撑的基板(W)供给处理液的步骤(S39)。在向基板(W)供给处理液的步骤(S39)中，从第一吹出口(105)向上方吹出气体，并且从第二吹出口(106)向上方吹出气体。第一吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的中央部。第二吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的周缘部。第二吹出口(106)以比第一吹出口(105)大的流量吹出气体。

公开(公告)号：CN112542418B

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202010847751.2

申请日：2020-08-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  高山祐一 ,  森冈利仁 ,  蒲裕充 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够合适地处理基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有处理单元(14)和控制部(18)。处理单元(14)对基板(W)进行处理。控制部(18)控制处理单元(14)。处理单元(14)具有板(32)、旋转驱动部(45)、固定销(33)、气体吹出口(34)、吹出调节部(40)、处理液供给部(51)以及流量调节部(57)。控制部(18)根据被固定销(33)支撑的基板(W)的形状、板(32)的转速(RS)、以及处理液供给部(51)向被固定销(33)支撑的基板(W)供给的处理液的流量(FR)中的至少任一个，改变气体吹出口(34)吹出的气体的流量。