公开(公告)号：CN109478500A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780045855.8

申请日：2017-09-04

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 波多野章人 ,  林豊秀 ,  乡原隆行 ,  高桥弘明 ,  宗德皓太

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备：支撑构件、罩部、供气单元、及排气单元。供气单元从基板的上表面与顶面间的空间的周围向该空间供给从供气口喷出的气体。排气单元经由在顶面在与基板的上表面中心部相向的位置开口的排气口排出基板的上表面与顶面之间的气体。基板的上表面与顶面在基板的上表面中心部的间隔，窄于基板的上表面与顶面在基板的上表面外周部的间隔。

公开(公告)号：CN107871688A

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201710844624.5

申请日：2017-09-19

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 宗德皓太 ,  林豊秀 ,  波多野章人 ,  乡原隆行 ,  高桥弘明

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67167 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其包括：烘烤腔室，在其内部对基板进行加热处理，并且在规定方向上层叠有多个；处理单元，其具有与所述烘烤腔室不同的液体处理腔室，并且用处理液对基板进行液体处理；包围隔离空间，其用于包围所述多个烘烤腔室的侧方，并且将所述烘烤腔室与所述烘烤腔室的周围隔离。

公开(公告)号：CN109478500B

公开(公告)日：2022-11-08

申请号：CN201780045855.8

申请日：2017-09-04

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 波多野章人 ,  林豊秀 ,  乡原隆行 ,  高桥弘明 ,  宗德皓太

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备：支撑构件、罩部、供气单元、及排气单元。供气单元从基板的上表面与顶面间的空间的周围向该空间供给从供气口喷出的气体。排气单元经由在顶面在与基板的上表面中心部相向的位置开口的排气口排出基板的上表面与顶面之间的气体。基板的上表面与顶面在基板的上表面中心部的间隔，窄于基板的上表面与顶面在基板的上表面外周部的间隔。

公开(公告)号：CN107871688B

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201710844624.5

申请日：2017-09-19

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 宗德皓太 ,  林豊秀 ,  波多野章人 ,  乡原隆行 ,  高桥弘明

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，其包括：烘烤腔室，在其内部对基板进行加热处理，并且在规定方向上层叠有多个；处理单元，其具有与所述烘烤腔室不同的液体处理腔室，并且用处理液对基板进行液体处理；包围隔离空间，其用于包围所述多个烘烤腔室的侧方，并且将所述烘烤腔室与所述烘烤腔室的周围隔离。

公开(公告)号：CN110366769A

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201880013272.1

申请日：2018-02-07

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 乡原隆行 ,  林豊秀 ,  波多野章人 ,  宗德皓太 ,  高桥弘明

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/3065

Abstract: 用以从基板的表面去除抗蚀剂的基板处理方法包括：支撑步骤，使支撑构件将所述基板支撑为水平；混合气体供给步骤(T4)，将水蒸气与臭氧气体的混合气体供给至所述基板的表面附近；以及紫外线照射步骤(T6)，对供给至所述基板的表面附近的混合气体照射紫外线。