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公开(公告)号:CN117583215A
公开(公告)日:2024-02-23
申请号:CN202310450788.5
申请日:2023-04-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种抑制对涂布膜产生干燥不均的技术。减压干燥装置(1)包括:腔室(10)、作为销抵接部的一例的支撑销(22)、作为宽幅部的一例的支撑板(21)、作为窄幅部的一例的驱动轴(23)、以及排气部。腔室(10)收容基板(9)。支撑板(21)设置于腔室(10)内,且包含上方的宽度比下方的宽度宽的部分。支撑销(22)从支撑板(21)向上方延伸,并与基板(9)的下表面抵接。驱动轴(23)从支撑板(21)向下方延伸,且宽度比支撑板(21)窄。排气部将腔室(10)内的气体排出。
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公开(公告)号:CN117583215B
公开(公告)日:2024-12-10
申请号:CN202310450788.5
申请日:2023-04-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种抑制对涂布膜产生干燥不均的技术。减压干燥装置(1)包括:腔室(10)、作为销抵接部的一例的支撑销(22)、作为宽幅部的一例的支撑板(21)、作为窄幅部的一例的驱动轴(23)、以及排气部。腔室(10)收容基板(9)。支撑板(21)设置于腔室(10)内,且包含上方的宽度比下方的宽度宽的部分。支撑销(22)从支撑板(21)向上方延伸,并与基板(9)的下表面抵接。驱动轴(23)从支撑板(21)向下方延伸,且宽度比支撑板(21)窄。排气部将腔室(10)内的气体排出。
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公开(公告)号:CN117393462B
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202310828384.5
申请日:2023-07-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。本发明提供一种在使喷嘴与喷嘴挡板一体地下降到接触位置时,能够防止喷嘴挡板压碎存在于基板的上表面的异物的基板处理装置及基板处理方法。本发明的基板处理装置,一边以所谓的浮起方式相对于喷嘴相对地搬运基板,一边向基板的上表面涂敷处理液,所述基板处理装置具有:喷嘴挡板,在喷嘴相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于喷嘴的前方侧并与喷嘴一体地移动;升降部,使喷嘴和喷嘴挡板一体地升降;以及控制部,控制升降部,以执行升降部使喷嘴和喷嘴挡板一体地下降并使喷嘴定位于接触位置的接触动作。并且,在接触动作时,从上方观察,保持面和喷嘴挡板彼此分离。
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公开(公告)号:CN117358548B
公开(公告)日:2025-04-11
申请号:CN202310419640.5
申请日:2023-04-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor: 北村翔也
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种抑制对涂布膜产生干燥不均的技术。减压干燥装置(1)包括腔室(10)、多个支撑销(22)以及排气部(30)。腔室(10)收容基板(9)。多个支撑销(22)在腔室(10)内从下方支撑基板(9)。排气部(30)将腔室(10)内的气体排出。多个支撑销(22)包含一个以上的第一支撑销(22a)、以及比第一支撑销(22a)细的一个以上的第二支撑销(22b)。第一支撑销(22a)中的至少一个从下方支撑基板(9)中的周缘区域。第二支撑销(22b)中的至少一个从下方支撑基板(9)的比周缘区域更靠内侧的内侧区域中的形成有涂布膜的区域。
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公开(公告)号:CN117358548A
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN202310419640.5
申请日:2023-04-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor: 北村翔也
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种抑制对涂布膜产生干燥不均的技术。减压干燥装置(1)包括腔室(10)、多个支撑销(22)以及排气部(30)。腔室(10)收容基板(9)。多个支撑销(22)在腔室(10)内从下方支撑基板(9)。排气部(30)将腔室(10)内的气体排出。多个支撑销(22)包含一个以上的第一支撑销(22a)、以及比第一支撑销(22a)细的一个以上的第二支撑销(22b)。第一支撑销(22a)中的至少一个从下方支撑基板(9)中的周缘区域。第二支撑销(22b)中的至少一个从下方支撑基板(9)的比周缘区域更靠内侧的内侧区域中的形成有涂布膜的区域。
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公开(公告)号:CN117884329A
公开(公告)日:2024-04-16
申请号:CN202311319374.5
申请日:2023-10-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种对涂敷膜的干燥不均进行抑制的减压干燥装置及减压干燥方法。减压干燥装置(1)具备腔室(10)、支撑部(20)、冷却部(40)、第一升降部(100)、减压机构(30)和控制部(80)。支撑部(20)在腔室内支撑基板(9)。冷却部(40)冷却与基板(9)的上表面相对的冷却面(40a)。第一升降部(100)使支撑部和冷却面中的至少任一方在基板与冷却面之间的间隔为第一间隔的第一状态与该间隔为宽于所述第一间隔的第二间隔的第二状态之间升降。减压机构吸引腔室内的气体,降低腔室内的气压。控制部控制第一升降部和减压机构,使得在第一状态下使腔室内的气压达到第一气压之后,在第二状态下使腔室内的气压达到低于第一气压的第二气压。
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公开(公告)号:CN117393462A
公开(公告)日:2024-01-12
申请号:CN202310828384.5
申请日:2023-07-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。本发明提供一种在使喷嘴与喷嘴挡板一体地下降到接触位置时,能够防止喷嘴挡板压碎存在于基板的上表面的异物的基板处理装置及基板处理方法。本发明的基板处理装置,一边以所谓的浮起方式相对于喷嘴相对地搬运基板,一边向基板的上表面涂敷处理液,所述基板处理装置具有:喷嘴挡板,在喷嘴相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于喷嘴的前方侧并与喷嘴一体地移动;升降部,使喷嘴和喷嘴挡板一体地升降;以及控制部,控制升降部,以执行升降部使喷嘴和喷嘴挡板一体地下降并使喷嘴定位于接触位置的接触动作。并且,在接触动作时,从上方观察,保持面和喷嘴挡板彼此分离。
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