公开(公告)号：CN117884329A

公开(公告)日：2024-04-16

申请号：CN202311319374.5

申请日：2023-10-11

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 北村翔也 ,  高村幸宏 ,  竹市祐实

IPC: B05D3/04

Abstract: 本发明提供一种对涂敷膜的干燥不均进行抑制的减压干燥装置及减压干燥方法。减压干燥装置(1)具备腔室(10)、支撑部(20)、冷却部(40)、第一升降部(100)、减压机构(30)和控制部(80)。支撑部(20)在腔室内支撑基板(9)。冷却部(40)冷却与基板(9)的上表面相对的冷却面(40a)。第一升降部(100)使支撑部和冷却面中的至少任一方在基板与冷却面之间的间隔为第一间隔的第一状态与该间隔为宽于所述第一间隔的第二间隔的第二状态之间升降。减压机构吸引腔室内的气体，降低腔室内的气压。控制部控制第一升降部和减压机构，使得在第一状态下使腔室内的气压达到第一气压之后，在第二状态下使腔室内的气压达到低于第一气压的第二气压。

公开(公告)号：CN114950810B

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202210026200.9

申请日：2022-01-11

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 竹市祐实 ,  安陪裕滋 ,  塩田明仁

IPC: B05B15/555 ,  B05B15/50 ,  B05C5/02

Abstract: 本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时，在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置，即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果，处理液的残留量被大幅削减。

公开(公告)号：CN114950810A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210026200.9

申请日：2022-01-11

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 竹市祐实 ,  安陪裕滋 ,  塩田明仁

IPC: B05B15/555 ,  B05B15/50 ,  B05C5/02

Abstract: 本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时，在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置，即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果，处理液的残留量被大幅削减。