-
公开(公告)号：CN106133882A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580017008.1
申请日：2015-03-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 吉田武司
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/67742
Abstract: 在基板处理装置(1)中，在腔室(21)内，从遮挡板(51)的上方向盖内部空间(231)供给气体，从而使盖内部空间(231)的气压大于本体内部空间(221)的气压，将盖内部空间(231)的气体向本体内部空间(221)送出。另外，从盖内部空间(231)流入的气体，被设置于本体内部空间(221)的基板(9)的下方的本体排出口(226a)吸引而向腔室(21)的外部排出。由此，在腔室(21)内形成大致圆筒状的气体的气流。在该大致圆筒状的气流的内部，向基板(9)的上表面(91)供给处理液，因此能够抑制处理液的雾或烟尘等，经过大致圆筒状的气流来从遮挡板(51)和盖底面部(234)之间的间隙向盖内部空间(231)进入的情况。
-
公开(公告)号：CN107403742B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201710352102.3
申请日：2017-05-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 基板处理装置包括：基板保持单元，其将基板保持为水平；基板旋转单元，其使被保持的基板绕沿铅直方向的规定的旋转轴线旋转；处理液供给喷嘴，其沿水平方向移动，向被保持的基板的上表面供给处理液；切断构件，其将与被保持的基板的上表面之间的环境气体从周围环境气体切断；非活性气体供给单元，其向被保持的基板的上表面与切断构件之间供给非活性气体；切断构件旋转单元，其使切断构件绕所述旋转轴线旋转；控制器，其控制切断构件旋转单元，调整旋转方向上的通过容许部的位置，以使处理液供给喷嘴能够通过环状部。切断构件包括包围由基板保持单元保持的基板的环状部、以及设置于环状部并容许所述处理液供给喷嘴通过所述环状部的通过容许部。
-
公开(公告)号：CN107275255B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201710165807.4
申请日：2017-03-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 吉田武司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，用于接受向基板外排除的处理液的挡板，以在俯视时包围基板保持单元和相向构件的方式配置。挡板与基板、具有与基板的上表面相向的相向面的相向构件一起形成从周围的环境气体隔离的空间。通过非活性气体供给单元向空间供给非活性气体，从而将空间内的环境气体置换为非活性气体。以在形成有空间的状态下配置于上述空间内的方式从挡板的内壁延伸的处理液供给喷嘴，向基板的上表面供给处理液。
-
公开(公告)号：CN110060925A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201910247610.4
申请日：2015-03-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 一种基板处理方法，用于基板处理装置，所述基板处理方法包括：a)工序，一边通过所述侧部开口开闭机构开闭所述侧部开口，一边通过所述侧部开口将基板搬入所述腔室内，在所述第一空间中由所述基板保持部保持所述基板，b)工序，通过所述基板移动机构，将所述基板从所述第一空间通过所述开口向第二空间相对移动，c)工序，在所述第二空间中向所述基板的上表面供给处理液，d)工序，通过所述基板移动机构，将所述基板从所述第二空间通过所述开口向第一空间相对移动，e)工序，在所述第一空间中使用所述气体使所述基板干燥，f)工序，一边通过所述侧部开口开闭机构开闭所述侧部开口，一边通过所述侧部开口将所述基板搬出所述腔室外。
-
公开(公告)号：CN106133880B
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201580014634.5
申请日：2015-03-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
Abstract: 基板处理装置(1)具有：腔室主体(22)，具有上部开口(222)；腔室盖部(23)，具有下部开口(232)；遮蔽板(51)，配置在腔室盖部的盖内部空间(231)。通过由腔室盖部覆盖腔室主体的上部开口，形成腔室(21)。在盖内部空间配置有向基板(9)喷出处理液的作为喷出部的扫描喷嘴(186)。头旋转机构(863)将喷出部有选择地配置在下部开口的上方的喷出位置和相对于下部开口在径向上离开的待机位置。在盖内部空间，进行非活性气体的供给以及内部的气体的排出。在向基板供给处理液时，喷出部配置在喷出位置，在未向基板供给处理液的期间对喷出部进行干燥时，喷出部配置在待机位置，并通过遮蔽板堵塞下部开口。其结果，能够高效地干燥喷出部。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106133882B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201580017008.1
申请日：2015-03-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 吉田武司
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
Abstract: 在基板处理装置(1)中，在腔室(21)内，从遮挡板(51)的上方向盖内部空间(231)供给气体，从而使盖内部空间(231)的气压大于本体内部空间(221)的气压，将盖内部空间(231)的气体向本体内部空间(221)送出。另外，从盖内部空间(231)流入的气体，被设置于本体内部空间(221)的基板(9)的下方的本体排出口(226a)吸引而向腔室(21)的外部排出。由此，在腔室(21)内形成大致圆筒状的气体的气流。在该大致圆筒状的气流的内部，向基板(9)的上表面(91)供给处理液，因此能够抑制处理液的雾或烟尘等，经过大致圆筒状的气流来从遮挡板(51)和盖底面部(234)之间的间隙向盖内部空间(231)进入的情况。
-
公开(公告)号：CN106133880A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580014634.5
申请日：2015-03-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/67023 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/68742
Abstract: 基板处理装置(1)具有：腔室主体(22)，具有上部开口(222)；腔室盖部(23)，具有下部开口(232)；遮蔽板(51)，配置在腔室盖部的盖内部空间(231)。通过由腔室盖部覆盖腔室主体的上部开口，形成腔室(21)。在盖内部空间配置有向基板(9)喷出处理液的作为喷出部的扫描喷嘴(186)。头旋转机构(863)将喷出部有选择地配置在下部开口的上方的喷出位置和相对于下部开口在径向上离开的待机位置。在盖内部空间，进行非活性气体的供给以及内部的气体的排出。在向基板供给处理液时，喷出部配置在喷出位置，在未向基板供给处理液的期间对喷出部进行干燥时，喷出部配置在待机位置，并通过遮蔽板堵塞下部开口。其结果，能够高效地干燥喷出部。
-
公开(公告)号：CN110060925B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN201910247610.4
申请日：2015-03-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 一种基板处理方法，用于基板处理装置，所述基板处理方法包括：a)工序，一边通过所述侧部开口开闭机构开闭所述侧部开口，一边通过所述侧部开口将基板搬入所述腔室内，在所述第一空间中由所述基板保持部保持所述基板，b)工序，通过所述基板移动机构，将所述基板从所述第一空间通过所述开口向第二空间相对移动，c)工序，在所述第二空间中向所述基板的上表面供给处理液，d)工序，通过所述基板移动机构，将所述基板从所述第二空间通过所述开口向第一空间相对移动，e)工序，在所述第一空间中使用所述气体使所述基板干燥，f)工序，一边通过所述侧部开口开闭机构开闭所述侧部开口，一边通过所述侧部开口将所述基板搬出所述腔室外。
-
公开(公告)号：CN114242613A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111056125.2
申请日：2021-09-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(1)具备：筒状护罩(53A)，接住从衬底(W)向外侧飞溅的液体；腔室(12)，包围护罩(53A)；间隔板(81)，将腔室(12)内的护罩(53A)周围的空间上下隔开；以及排气管，将护罩(53A)内侧的气体与间隔板(81)下侧的气体吸引到在腔室(12)内配置在比间隔板(81)更靠下方的上游端内，并排出到腔室(12)的外部。间隔板(81)包含：外周端(81o)，从腔室(12)的内周面(12i)向内侧离开；以及内周端，包围护罩(53A)。护罩升降单元通过使护罩(53A)升降，而改变从间隔板(81)的内周端(内周面(83i))到护罩(53A)的最短距离。
-
公开(公告)号：CN107403742A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201710352102.3
申请日：2017-05-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 基板处理装置包括：基板保持单元，其将基板保持为水平；基板旋转单元，其使被保持的基板绕沿铅直方向的规定的旋转轴线旋转；处理液供给喷嘴，其沿水平方向移动，向被保持的基板的上表面供给处理液；切断构件，其将与被保持的基板的上表面之间的环境气体从周围环境气体切断；非活性气体供给单元，其向被保持的基板的上表面与切断构件之间供给非活性气体；切断构件旋转单元，其使切断构件绕所述旋转轴线旋转；控制器，其控制切断构件旋转单元，调整旋转方向上的通过容许部的位置，以使处理液供给喷嘴能够通过环状部。切断构件包括包围由基板保持单元保持的基板的环状部、以及设置于环状部并容许所述处理液供给喷嘴通过所述环状部的通过容许部。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.036 seconds)
