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发明公开
曝光装置审中-实审

公开(公告)号：CN112526827A

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN202010960098.0

申请日：2020-09-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 有泽洋 , 浅井正也 , 春本将彦 , 田中裕二 , 毛利知佐世 , 本野智大 , 宫本周治

IPC: G03F7/20

Abstract: 曝光装置具有圆筒形状的周壁部件。周壁部件形成能够收容衬底的处理空间并且具有上部开口及下部开口。而且，在周壁部件的上部，以盖住上部开口的方式设置着光出射部。在周壁部件的下方设置着下盖部件，所述下盖部件设置成能够沿上下方向移动且能够封闭及打开下部开口。以在处理空间内收容有衬底且下部开口被下盖部件封闭的状态，用惰性气体置换处理空间内的环境气体。该状态下，真空紫外线从光出射部出射到衬底，衬底被曝光。

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