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公开(公告)号:CN107433240B
公开(公告)日:2020-04-14
申请号:CN201710320161.2
申请日:2017-05-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/55
Abstract: 本发明提供喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法。根据本发明,能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动之前,喷洒器(61A)事先在倾斜面(26)上喷洒冲洗液(Lb)。因此,刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动时,由喷洒器(61A)事先喷洒的冲洗液(Lb)能够进入狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)与刮除器(61B)之间,发挥润滑剂的作用。结果,能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。
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公开(公告)号:CN114270580B
公开(公告)日:2024-08-02
申请号:CN202080052247.1
申请日:2020-06-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M4/88 , H01M8/1004
Abstract: 贴付机构(5)具备:在包含在电解质膜(82)的表面设置了第一催化剂层(83)的膜电极接合体(85)在内的电极层基材(8)上附加包含副垫片膜(92)在内的副垫片基材(9)。贴付机构(5)具备:在外周面保持电极层基材(8)的第一贴付辊(51);保持副垫片基材(9)的第二贴付辊(52);将副垫片基材(9)吸附在第二贴付辊(52)的外周面上的吸附机构(53);以及使第二贴付辊(52)沿轴方向移动的贴付辊移动驱动部(54)。
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公开(公告)号:CN114207891A
公开(公告)日:2022-03-18
申请号:CN202080051741.6
申请日:2020-06-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M8/0273 , H01M8/1004
Abstract: 副垫片基材(9)依次具有长条带状的第二背板(91)、副垫片膜(92)以及覆盖膜(93)。第二半切部(4)沿与电极层基材(8)的第一催化剂层(83)对应的对应区域(9A1)设置从覆盖膜(93)的表面到达第二背板(91)的厚度方向中间部为止的切断部(9C)。覆盖膜回收辊(23)从副垫片基材(9)剥离并回收覆盖膜(93)的非对应区域(9A2)。贴付机构(5)将第一催化剂层(83)与覆盖膜(93)的对应区域(9A1)对位并将电极层基材(8)与副垫片基材(9)贴合。
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公开(公告)号:CN112825360A
公开(公告)日:2021-05-21
申请号:CN202011268505.8
申请日:2020-11-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M8/0297 , H01M8/1004 , H01M8/02 , H01M8/00
Abstract: 本发明提供带辅助衬垫的膜电极接合体的制造装置以及制造方法,能抑制在附加于膜电极接合体的两面的辅助衬垫膜中产生松弛。衬垫附加装置(100)对在一侧附加有第一辅助衬垫膜的膜电极接合体(85)的另一侧附加第二辅助衬垫膜。衬垫附加装置具有:位置确定部(410),确定第一基材中的第二催化剂层(84)的位置;第三半切部,根据由位置确定部确定的第二催化剂层的位置,在第二辅助衬垫膜上设置切断部(C9b),所述切断部将第二辅助衬垫膜分离为与第二催化剂层相对应的形状的对应区域(A93)和该对应区域以外的非对应区域(A94);第二贴付机构,一边使对应区域的位置和第二催化剂层的位置对位,一边将第二辅助衬垫膜贴付于第一基材(B1)的另一侧。
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公开(公告)号:CN112825360B
公开(公告)日:2024-04-12
申请号:CN202011268505.8
申请日:2020-11-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M8/0297 , H01M8/1004 , H01M8/02 , H01M8/00
Abstract: 本发明提供带辅助衬垫的膜电极接合体的制造装置以及制造方法,能抑制在附加于膜电极接合体的两面的辅助衬垫膜中产生松弛。衬垫附加装置(100)对在一侧附加有第一辅助衬垫膜的膜电极接合体(85)的另一侧附加第二辅助衬垫膜。衬垫附加装置具有:位置确定部(410),确定第一基材中的第二催化剂层(84)的位置;第三半切部,根据由位置确定部确定的第二催化剂层的位置,在第二辅助衬垫膜上设置切断部(C9b),所述切断部将第二辅助衬垫膜分离为与第二催化剂层相对应的形状的对应区域(A93)和该对应区域以外的非对应区域(A94);第二贴付机构,一边使对应区域的位置和第二催化剂层的位置对位,一边将第二辅助衬垫膜贴付于第一基材(B1)的另一侧。
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公开(公告)号:CN112820918B
公开(公告)日:2024-04-12
申请号:CN202011271281.6
申请日:2020-11-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M8/1004 , H01M4/88
Abstract: 本发明提供一种带辅助衬垫的膜电极接合体的制造方法以及制造装置、带辅助衬垫的膜电极接合体,能够抑制在带辅助衬垫膜的膜电极接合体中产生褶皱等变形。基材接合体(B3)从一侧到另一侧依次具有第一背片(91a)、第一辅助衬垫膜(92a)、膜电极接合体(85)、第二辅助衬垫膜(92b)、以及第二覆盖膜(93b)。膜电极接合体包括在一侧的面具有第一催化剂层(83)且在另一侧的面具有第二催化剂层(84)的电解质膜(82)。另外,基材接合体还具有:第一覆盖膜(93a),配置在第一辅助衬垫膜与第一催化剂层(83)之间,呈与第一催化剂层(83)相对应的形状;第二覆盖膜(93b),配置在第二催化剂层与第二辅助衬垫膜之间,呈与第二催化剂层相对应的形状。
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公开(公告)号:CN114207891B
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202080051741.6
申请日:2020-06-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M8/0273 , H01M8/1004
Abstract: 副垫片基材(9)依次具有长条带状的第二背板(91)、副垫片膜(92)以及覆盖膜(93)。第二半切部(4)沿与电极层基材(8)的第一催化剂层(83)对应的对应区域(9A1)设置从覆盖膜(93)的表面到达第二背板(91)的厚度方向中间部为止的切断部(9C)。覆盖膜回收辊(23)从副垫片基材(9)剥离并回收覆盖膜(93)的非对应区域(9A2)。贴付机构(5)将第一催化剂层(83)与覆盖膜(93)的对应区域(9A1)对位并将电极层基材(8)与副垫片基材(9)贴合。
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公开(公告)号:CN107433240A
公开(公告)日:2017-12-05
申请号:CN201710320161.2
申请日:2017-05-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/02
Abstract: 本发明提供喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法。根据本发明,能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动之前,喷洒器(61A)事先在倾斜面(26)上喷洒冲洗液(Lb)。因此,刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动时,由喷洒器(61A)事先喷洒的冲洗液(Lb)能够进入狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)与刮除器(61B)之间,发挥润滑剂的作用。结果,能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。
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公开(公告)号:CN114128001B
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN202080051781.0
申请日:2020-06-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M8/1004 , H01M8/0273 , B26F1/38
Abstract: 第一半切部(3)具备:吸附台(30),吸附具有第一背板(81)、电解质膜(82)、第一催化剂层(31),具有沿第一催化剂层(83)的周围的切断对象线(8T)在电极层基材(8)设置切断部(8C)的尖锋刃(311);以及移动驱动部(33),使旋转模切机(31)向半切位置(L12)移动。在半切位置(L12),通过使旋转模切机(31)旋转来使尖锋刃(311)到达电极层基材(8)中的第一背板(81)厚度方向中间部,由此设置切断部(8C)。(83)的电极层基材(8);圆筒状的旋转模切机
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公开(公告)号:CN114270580A
公开(公告)日:2022-04-01
申请号:CN202080052247.1
申请日:2020-06-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01M4/88 , H01M8/1004
Abstract: 贴付机构(5)具备:在包含在电解质膜(82)的表面设置了第一催化剂层(83)的膜电极接合体(85)在内的电极层基材(8)上附加包含副垫片膜(92)在内的副垫片基材(9)。贴付机构(5)具备:在外周面保持电极层基材(8)的第一贴付辊(51);保持副垫片基材(9)的第二贴付辊(52);将副垫片基材(9)吸附在第二贴付辊(52)的外周面上的吸附机构(53);以及使第二贴付辊(52)沿轴方向移动的贴付辊移动驱动部(54)。
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