公开(公告)号：CN112017997B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202010482294.1

申请日：2020-05-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岩田敬次 ,  森田明 ,  高桥朋宏 ,  枝光建治 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/311 ,  H10B41/35 ,  H10B41/20 ,  H10B43/35 ,  H10B43/20

Abstract: 本发明涉及基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法。本发明的课题在于根据处理的进展来调节处理液的循环流量。基板处理装置(1)具有：处理槽(11)，其使基板W浸渍于处理液；溢流槽(12)，其对从处理槽溢出的处理液进行回收；循环配管(13)，其将处理槽(11)与溢流槽(12)连接而使处理液循环；旁通配管(20)，其绕过设置于循环配管(13)的管线上加热器(16)和过滤器(17)而与循环配管(13)并行地连接；和开闭阀(21)，其对旁通配管(20)进行开闭，在硅浓度增高的蚀刻初期等将开闭阀(21)打开，使处理槽(11)中的处理液的流量增加。

公开(公告)号：CN112017997A

公开(公告)日：2020-12-01

申请号：CN202010482294.1

申请日：2020-05-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岩田敬次 ,  森田明 ,  高桥朋宏 ,  枝光建治 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/311 ,  H01L27/11524 ,  H01L27/11551 ,  H01L27/1157 ,  H01L27/11578

Abstract: 本发明涉及基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法。本发明的课题在于根据处理的进展来调节处理液的循环流量。基板处理装置(1)具有：处理槽(11)，其使基板W浸渍于处理液；溢流槽(12)，其对从处理槽溢出的处理液进行回收；循环配管(13)，其将处理槽(11)与溢流槽(12)连接而使处理液循环；旁通配管(20)，其绕过设置于循环配管(13)的管线上加热器(16)和过滤器(17)而与循环配管(13)并行地连接；和开闭阀(21)，其对旁通配管(20)进行开闭，在硅浓度增高的蚀刻初期等将开闭阀(21)打开，使处理槽(11)中的处理液的流量增加。