公开(公告)号：CN114746993A

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN202080081549.1

申请日：2020-11-05

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  石井弘晃 ,  酒井涉 ,  池上裕

IPC: H01L21/683 ,  B05C11/00 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备吸附保持机构、旋转机构、多个升降销、上下移动机构以及水平移动机构。吸附保持机构吸附保持基板。旋转机构使保持基板的吸附保持机构以旋转轴为中心旋转。上下移动机构使多个升降销沿上下方向移动。传感器测量保持于吸附保持机构的基板(W)的偏心状态。上下移动机构通过使多个升降销移动而从吸附保持机构支撑基板，在支撑基板的状态下，水平移动机构基于由传感器测量出的基板的偏心状态使多个升降销沿水平方向移动。

公开(公告)号：CN114846582A

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：CN202080088727.3

申请日：2020-12-16

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  石井弘晃 ,  酒井涉 ,  池上裕

IPC: H01L21/304

Abstract: 保持机构(21)将基板(SB)保持为水平。旋转机构(22)使保持基板(SB)的保持机构(21)旋转。喷嘴(51)朝基板(SB)供给处理液。喷嘴臂(52)保持喷嘴(51)。臂动作机构(53)使喷嘴臂(52)在俯视下与基板(SB)重叠的处理位置、及俯视下自基板(SB)偏离的退避位置之间移动。杯部(3)被配置在保持机构(21)的周围，承接来自基板(SB)的处理液。杯动作机构(40)使杯部(3)在上方位置与下方位置之间上下地移动。第一容器(61)以能够与杯部(3)一体地上下移动的方式被固定于杯部(3)，且能够收容位于退避位置的喷嘴(51)。

公开(公告)号：CN119517792A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411156296.6

申请日：2024-08-22

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  加藤拓司 ,  青木陆太 ,  山之内祐太 ,  池上裕

IPC: H01L21/67 ,  F26B11/18 ,  B01D12/00 ,  F26B21/00 ,  F26B21/14

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将清洗处理后的基板上残留的清洗液以具有比清洗液低的表面张力的置换液置换。在该置换时，将喷嘴装置配置到比处理承杯靠上方的喷嘴上位置。从喷嘴装置朝向下方喷出置换液，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。然后，对基板进行干燥。在该干燥时，从喷嘴装置朝向下方喷射气体，同时喷嘴装置在基板中心的上方位置处从喷嘴上位置下降至与基板W接近的喷嘴下位置。另外，继续气体的喷射，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移动至基板外周端部。